技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。
(2017年3月13日 10:30〜12:30)
ナノインブリントのメカニズムについて、離型技術を中心に最新の研究成果を含めて、わかりやすく解説します。
離型のメカニズムについて、樹脂の収縮や静止摩擦、モールド表面のラフネス、モールドの剛性、モールドの弾性率の影響などについて、欠陥対策の観点から考察します。
さらに、今後期待される10nm以下のナノインプリントに際しての分子挙動のシミュレーションより、材料・プロセスに求められる事項についての最新の研究成果を紹介します。
(2017年3月13日 13:15〜15:00)
ナノインプリント技術では、異種材料の界面を多分に扱う。
筆者らの単分子膜工学を発端とするナノインプリント関連材料開発を概説する。
レジストとなる光硬化液体、基板との密着を司る密着分子層、モールドからの離型を促す離型促進分子層を紹介し、繰返し安定な離型の機構を考える。
また、高粘度の光硬化液体を基板上に液滴配置できるPrint & Imprint法を紹介し、残膜厚均一化にむけたアプローチを紹介する。
さらに、成形サイズが20nm近傍になると現れる特異的な現象を紹介し、シングルナノメートルでの成形加工に向けた筆者らの取り組みを紹介する。
(2017年3月13日 15:15〜17:00)
ナノインプリントは従来の光リソグラフィの延長の技術ではなく、新たなリソグラフィプラットフォームを創生する技術である。
ナノインプリントは、従来の光リソグラフィ関連の多くの技術を破壊するが、新たな欠陥低減克服のための技術事業を創生しなければならない。
ナノレベルの欠陥を検査・測定し、欠陥を除去し、欠陥を発生させない材料技術を生み出す技術を総称してナノデフェクトマネージメント (nano defect management, NDM) と呼んでいる。
ナノインプリントはNDM関連産業の発展がなければ実現できない。
行き詰った光リソグラフィのパラダイムシフトとしてのナノインプリントNDM関連の研究者及び装置材料メーカの方々との議論を本講演で行えたら幸いである。
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