技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、光ナノインプリントリソグラフィによるナノ造形・微細加工技術の先端研究例を東北大学・中川勝教授が解説いたします。
基板-レジスト間、レジスト-モールド間における理想的な界面を形成する材料技術、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料、極限ナノ造形を目指すレーザー加工孔版印刷+光ナノインプリント成形技術など独自の先端技術が語られます。
下地基板のナノ加工のための有型成形加工技術、光ナノインプリントリソグラフィに資する材料・プロセス・装置技術を概説します。
材料では、基板-レジスト間の密着分子層形成材料の選択、レジスト-モールド間の離型促進分子層の選択、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料について説明します。
プロセスでは、非破壊で広領域の検査が可能な蛍光検査法、粗密パターンに対応するための被成形体の位置選択的配置法のレーザー加工孔版印刷を紹介します。特に、筆者らが注力しているレーザー加工孔版印刷法を組み込んだナノインプリント技術の特徴を習得できます。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/3/19 | EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望 | オンライン | |
2025/4/22 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | オンライン | |
2025/5/13 | リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |