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レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向

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レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎と最新技術動向

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、最新の学会発表、論文、特許、業界動向等に基づき、レジスト・微細加工用材料の現状・動向と要求特性、今後の展望について解説いたします。

開催日

  • 2020年11月9日(月) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • リソグラフィ・レジストに関心のある研究者、技術者、製造販売担当、新規事業開発担当、企画担当、特許担当、市場アナリスト

修得知識

  • レジスト、微細加工用材料の基礎知識
  • リソグラフィの基礎知識・最新技術
  • レジスト、微細加工用材料の要求特性
  • レジスト、微細加工用材料の課題と対策
  • レジスト、微細加工用材料の最新技術・ビジネス動向

プログラム

 メモリー、マイクロセッサ等のデバイスの高集積化の要求は、携帯端末、情報機器等の高性能化に伴い益々大きくなっており、5nmロジックノードも近づいている。本講演では、これらのデバイスの微細化を支えるレジスト、 リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、今後の展望、市場動向についてまとめる。

  1. リソグラフィの基礎
    1. 露光
    2. 照明方法
    3. マスク
    4. レジストプロセス
    5. ロードマップ
  2. レジストの基礎
    1. 溶解阻害型レジスト
    2. 化学増幅型レジスト
  3. レジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の最新技術
    1. 液浸リソグラフィ
    2. ダブル/マルチパターニング
    3. EUVリソグラフィ
    4. 自己組織化 (DSA) リソグラフィ
    5. ナノインプリントリソグラフィ
  4. リソグラフィの技術展望
  5. レジスト、微細加工用材料の技術展望と市場動向

講師

  • 遠藤 政孝
    大阪大学 産業科学研究所
    招聘教授

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

シーエムシーリサーチからの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
また、2名以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり半額の 22,500円(税別) / 24,750円(税込)となります。

  • Eメール案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • Eメール案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アカデミック割引

  • 1名様あたり 24,000円(税別) / 26,400円(税込)

学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院の教員、学生に限ります。

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