技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
本セミナーでは、リソグラフィの基礎知識・最新技術、レジスト材料・微細加工用材料の基礎、微細加工用材料の特性、レジスト材料・微細加工用材料の課題・対策、レジスト材料の最新技術・ビジネス動向まで、具体的に分かりやすく解説いたします。
本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。
本セミナーでは、溶解阻害型や化学増幅型などレジストの基礎からメタルレジスト含むEUVレジストまで、各種微細加工・リソグラフィ技術やレジスト材料の基礎から、最新動向・展望までを幅広く解説いたします。
本セミナーでは、ナノインプリントリソグラフィ (Nanoimprint Lithography: NIL) の基礎、要素技術、実用例を解説いたします。
また、ナノインプリントの方式、熱ナノインプリント、UVナノインプリント、ロールトゥロールナノインプリントについて説明した後、実用例である反射防止効果のあるモスアイ構造フィルムの作製方法と応用例について紹介いたします。
本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。
本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。
本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。
本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。
本セミナーでは、ナノインプリントについて取り上げ、機械学習を用いた欠陥予測、材料・プロセス設計、装置の最適化について解説いたします。
また、欠陥、コンタミ、硬化反応が遅いなどトラブルの原因と解決のヒントが得られます。
本セミナーでは、ナノインプリントの基礎から解説し、メカニズム、プロセス設計や不具合の対応に必須となる項目について詳解いたします。
本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。
本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。
本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。
本セミナーでは、レジストの基礎から、レジスト・微細加工用材料のトラブル対策についてその要求特性、課題をふまえて解説いたします。
本セミナーでは、ナノインプリント技術の基礎と最新の応用について概説いたします。
また、ナノインプリントの方式、熱ナノインプリント、UVナノインプリント、ロールトゥロールナノインプリントについて説明した後、実用例である反射防止効果のあるモスアイ構造フィルムの作製方法と応用例について紹介いたします。
本セミナーでは、ナノインプリントの基礎から解説し、メカニズム、プロセス設計や不具合の対応に必須となる項目について詳解いたします。
本セミナーでは、ナノインプリントについて取り上げ、機械学習を用いた欠陥予測、材料・プロセス設計、装置の最適化について解説いたします。
また、欠陥、コンタミ、硬化反応が遅いなどトラブルの原因と解決のヒントが得られます。
本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。
本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。
本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。
本セミナーでは、ナノインプリントの基礎から解説し、メカニズム、プロセス設計や不具合の対応に必須となる項目について詳解いたします。
本セミナーでは、デバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向、今後の展望、市場動向について解説いたします。
本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。
本セミナーでは、デバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向、今後の展望、市場動向について解説いたします。
本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。
本セミナーでは、光ナノインプリントリソグラフィによるナノ造形・微細加工技術の先端研究例を東北大学・中川勝教授が解説いたします。
基板-レジスト間、レジスト-モールド間における理想的な界面を形成する材料技術、成形状態の可視化を可能とするレジスト材料、極限ナノ造形を目指すレーザー加工孔版印刷+光ナノインプリント成形技術など独自の先端技術が語られます。
本セミナーでは、デバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向、今後の展望、市場動向について解説いたします。
本セミナーでは、リソグラフィの基礎を理解していただき、デバイスの微細化を支えるレジスト・微細加工用材料の基礎、現在の5nmロジックノードに対応する要求特性、課題と対策、最新技術・動向を解説し、来年予定されている3nmロジックノード以降の今後の展望、市場動向についてまとめます。
本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。
本セミナーでは、デバイスの微細化を支えるレジスト、リソグラフィ、微細加工用材料の基礎、要求特性、課題と対策、最新技術・動向、今後の展望、市場動向について解説いたします。