技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、ALDプロセスの基礎知識から、成膜に用いられる有機金属原料の分子設計・合成・揮発性・安全性について、現場の実情に即して体系的に解説いたします。
また、近年話題のカルコゲナイド (MoS2など) や遷移金属系薄膜への適用技術、成膜トラブルを防ぐ原料の選択指針、ALDの逆工程であるアトミックレイヤーエッチング (ALE) や、低温でも高品質な成膜が可能な低温ALDにも触れます。
有機金属化合物の一般的特徴とALD用原料としての揮発可能な原料の開発指針を中心として、多種気相原料の特徴とALDに適しているか否かを解説する。また、原料の揮発・輸送手段の例を具体的に紹介する。さらに現在、注目を集めているMoS2などカルコゲナイドや遷移金属薄膜の原料と成膜、今後の発展が期待されるALDの逆工程ALE (Atomic Layer Eching) についても提案、最後に近年盛んになった低温ALDについても触れる。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/9/19 | ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 | 東京都 | 会場 |
2025/10/9 | 電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用 | オンライン | |
2025/10/16 | 半導体材料と半導体デバイス製造プロセス | オンライン | |
2025/10/21 | 半導体材料と半導体デバイス製造プロセス | オンライン | |
2025/12/16 | 電子デバイスの製造のための真空・薄膜形成技術の基礎と応用 | オンライン |