技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

塗布のセミナー・研修・出版物

塗布膜乾燥プロセスのシミュレーションとトラブルシューティング

2012年6月29日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、塗布膜乾燥プロセスにおける「膜厚の均一化を図りたい」「残留溶剤を低減したい」「バインダーの偏りを無くしたい」といった現場のトラブルについて、解決への指針を解説いたします。

粘着剤・剥離剤の基礎と塗工・評価方法及び最新技術動向

2012年5月30日(水) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、各種粘着剤の種類、特徴から、粘着剤の基本設計と加工、評価方法について解説し、その後、粘着製品を使用する際に起こりやすいトラブルとその対策について解説いたします。

レオロジーを用いた塗布、塗膜の評価と制御

2012年4月27日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、毎回好評の「数式のないレオロジー入門」で、楽しく、分かりやすい講義を展開する講師が、レオロジーと塗布、塗膜についての解説いただきます。

液体微粒化技術の基礎と測定・評価

2012年4月24日(火) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、内燃機関の燃料噴射、噴霧塗装、半導体の精密洗浄、医薬品原料・製剤の製造、農薬散布など様々な産業において必要とされている液体微粒化技術の基礎と測定・評価技術を詳解いたします。

コーティング乾燥におけるトラブル解決と品質向上

2012年2月17日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、コーティングの原理などの基礎から解説し、欠陥・不均一・むら、ウォータマーク、剥離、密着不良などのトラブルの原因と対策について詳解いたします。

リチウム二次電池 / 電池デバイスにおける塗布&乾燥技術と欠陥・不良対策

2012年2月10日(金) 12時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、ダイコーティングを中心に、各種塗布方式の分類や基礎的な考え方から間欠塗布やストライプコートなどのパターン塗布技術のポイント、乾燥の基礎的なメカニズムから実際の設計までを解説いたします。

塗布膜の乾燥プロセスにおける解析・制御技術

2011年11月29日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、塗布膜乾燥プロセスで重要な界面科学とレオロジーと「蒸発」「対流」「沈降」「固化」について基礎から解説いたします。

不良低減のためのコーティング技術の極意と膜の物性評価

2011年11月25日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本講座では、コーティング膜 (塗膜) の性能評価、物性向上のポイント、トラブルと対策について、経験豊富な講師が丁寧に解説いたします。

乾燥プロセスにおける塗布膜欠陥の原因と対策

2011年11月17日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは乾燥の基礎から解説し、膜厚の均一化、シミュレーション技術、塗布膜のトラブルと対策について詳解いたします。

押出コーティングの基礎と不良対策

2011年10月24日(月) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、押出加工・押出機・押出コーティングの基礎から解説し、押出コーティングにおける不具合事例と対策について詳解いたします。

押出コーティング・ラミネーティングによるフィルム製造、加工技術 スキルアップセミナー

2011年9月14日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、押出フィルムの基礎から解説し、樹脂特性、ライン各部位の定義、プロセス、品質改善など、フィルム製造・加工を多方面から解説いたします。

「見える化」による、塗装・コーティング現場のゴミブツ対策

2011年7月8日(金) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

本セミナーでは、塗装工程におけるゴミ・ブツ退治に有効な「見える化」手法をツールの実演を交えて解説し、トラブル原因の究明と対策にすぐに役立つノウハウを詳解いたします。

粘着剤・剥離剤の基礎と塗工・評価方法及び最新技術動向

2011年6月28日(火) 12時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、各種粘着剤の種類、特徴から、粘着剤の基本設計と加工方法について解説いたします。
また、電子部材用途を意識した粘着剤設計と、用いられる特殊粘着製品を解説いたします。

塗布膜乾燥プロセスとシミュレーション、解析方法

2011年6月2日(木) 10時30分16時30分
大阪府 開催 会場 開催

塗布膜の乾燥工程の基礎から解説し、乾燥工程のモデル化、数値シミュレーションの実際について詳解いたします。

「見える化」による、塗装・コーティング現場のゴミブツ対策

2011年4月28日(木) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、塗装工程におけるゴミ・ブツ退治に有効な「見える化」手法をツールの実演を交えて解説し、トラブル原因の究明と対策にすぐに役立つノウハウを詳解いたします。

乾燥操作の必須知識と塗布膜乾燥メカニズム

2011年4月27日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、乾燥操作の基礎から解説し、乾燥装置の選定、設計、塗布膜乾燥の原理と品質、トラブル対策まで詳解いたします。

リチウムイオン電池製造の勘どころ

2011年4月26日(火) 10時30分16時50分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、リチウムイオン電池の製造について基礎から解説し、スラリー調整・塗布・乾燥プロセスまでを4名の専門家が徹底解説いたします。

レオロジー、濡れ性から理解する塗布液の調製と物性制御

2011年4月25日(月) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、レオロジー、界面化学の基礎から解説し、塗工プロセス・塗布液の調製・物性制御について詳解いたします。

塗布・乾燥技術 スキルアップセミナー (レオロジー・界面化学・乾燥操作)

2011年4月25日(月) 13時00分16時30分
2011年4月27日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは塗布・乾燥のセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 89,250円 → 割引受講料 59,800円

よい塗布膜を得るための塗布・乾燥のノウハウと最適化

2011年4月15日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、塗布・乾燥の基礎から解説し、塗布・乾燥プロセスの高品位化・高速化・トラブル対策に活かせる知識を習得していただきます。

塗布・乾燥技術 スキルアップセミナー (最適化・乾燥操作)

2011年4月15日(金) 10時30分16時30分
2011年4月27日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは塗布・乾燥のセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 94,500円 → 割引受講料 78,750円

塗布&乾燥技術 スキルアップセミナー (3日間)

2011年4月15日(金) 10時30分16時30分
2011年4月25日(月) 13時30分17時00分
2011年4月27日(水) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは塗布・乾燥のセミナーを3テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 通常受講料 : 136,500円 → 割引受講料 84,000円

塗布・乾燥技術 スキルアップセミナー (最適化・レオロジー・界面化学)

2011年4月15日(金) 10時30分16時30分
2011年4月25日(月) 13時00分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは塗布・乾燥のセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 89,250円 → 割引受講料 59,800円

インクジェットの塗布、吐出、パターニング技術と必須知識と最適化

2011年3月28日(月) 10時30分16時30分
2011年3月29日(火) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーはインクジェットのセミナーを2テーマセットにしたコースです。
セット受講で特別割引にてご受講いただけます。
通常受講料 : 94,500円 → 割引受講料 78,750円

レオロジー (粘度・粘弾性) の必須知識と分散性・ぬれ性評価への活用

2011年2月18日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、分散系に関するレオロジーの基礎から解説し、粒子の凝集に関するコロイド化学、固体表面に対する液体のぬれ性を理解するための界面化学について詳解いたします。

ダイコーティングの現場でのトラブルとその対策

2010年10月15日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーでは、ダイコーティングを実践する際に必ず問題となる、塗布スジ、塗布ムラ、膜圧分布、送液技術と対応策について網羅的に習得していただきます。

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