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EUVメタルレジストの作製、反応機構と評価

EUVメタルレジストの作製、反応機構と評価

～半導体微細化のキーマテリアル! 要求特性、開発事例、今後の課題を解説～
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概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

開催日

  • 2024年1月22日(月) 10時30分 ～ 16時15分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

修得知識

  • メタルレジストがなぜ重要か
  • メタルレジストの基本構造
  • メタルレジストのEUV露光による反応機構
  • EUVリソグラフィーの基礎知識
  • EUVフォトプロセスの最適化方法
  • EUVフォトプロセスの評価方法

プログラム

第1部 EUVメタルレジストの作製, 物性評価と反応機構

(2024年1月22日 10:30〜12:00)

　レジストの歴史歴背景、メタルレジストの重要性、メタルレジストの作製方法およびメタルレジストのEUVによる反応機構を紹介する。メタルレジストの反応機構を明らかにする分析手法に関しても紹介する。

  1. レジスト
    1. レジストの歴史
    2. レジストの歴史的背景
    3. メタルレジストの重要性
  2. メタルレジスト
    1. メタルレジストの種類
    2. メタルレジストの作製方法
    3. メタルレジストの構造
    4. メタルレジストのEUV露光後の構造
  3. メタルレジストEUV露光による反応機構の解析
    1. XRDによるEUV露光による構造変化解明
    2. 光電子分光によるEUV露光による反応元素解明
    3. XANESによるEUV露光による反応化学結合解明
    • 質疑応答

第2部 EUVレジスト材料の反応機構、高性能化とメタルレジスト材料の性能評価

(2024年1月22日 13:00〜14:30)

　コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。本講演では、EUV用レジスト材料の反応機構およびEUVレジスト材料の反応機構に基づいた高性能化にについて解説します。特に、メタルレジスト材料の性能評価に関する研究について最近の研究成果を挙げながら紹介する。

  1. はじめに
    1. リソグラフィ工程とリソグラフィ技術の変遷
    2. EUVリソグラフィの現状と課題
    3. EUVリソグラフィレジスト評価システム
  2. EUV/EBレジストの反応機構
    1. EUV/EBリソグラフィ用化学増幅型レジストの反応機構
    2. EUV/EBレジスト材料の反応機構に基づいた高性能化
    3. 次世代リソグラフィ用レジスト材料の要求特性
    4. EUV/EB化学増幅型レジストの問題点
    5. EUV/EBレジストの設計指針
  3. メタルレジスト材料の性能評価
    1. EUVリソグラフィ用メタルレジストの概要
    2. 放射線による金属ナノ粒子の形成メカニズムに基づいた有機無機ハイブリッドパターン形成
    3. メタル化合物の添加によるEUVレジストの高感度化
    4. メタルレジスト材料の性能評価
  4. 今後の課題
    • 質疑応答

第3部 EUVレジスト、メタルレジストの評価技術

(2024年1月22日 14:45〜16:15)

　EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術について解説します。特に、現在、開発が進んでいる次世代EUVレジストである、メタルレジストの特徴と評価方法についても、解説します。

  1. EUVLの概要
    1. EUVLの概要
    2. EUVL用レジスト
  2. アウトガス評価技術
    1. EUVLレジストのアウトガス評価方法
    2. EUVLレジストのアウトガス評価装置
  3. EUVレジストの評価技術
    1. EUV透過率測定
    2. ナノパーティクル添加レジストの高感度化
    3. 屈折率nk測定
    4. EUV2光束干渉露光
  4. EUVメタルレジストの評価技術
    1. メタルレジストの概要
    2. EUVメタルレジストのアウトガス分析
    3. EUVメタルレジストの問題点
  5. EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
    • 質疑応答
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講師

  • 山下 良之 氏
    国立研究開発法人 物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター
    主幹研究員
  • 山本 洋揮 氏
    国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構 高崎量子応用研究所 量子機能創製研究センター
    主幹研究員
  • 関口 淳 氏
    リソテックジャパン 株式会社
    取締役執行役員 / ナノサイエンス・グループ長
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主催

株式会社 技術情報協会
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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