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極端紫外線リソグラフィ (EUVL: Extreme Ultraviolet Lithography)のセミナー・研修・出版物

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2025年8月19日(火) 10時30分2025年8月26日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年夏版)

2025年8月18日(月) 13時00分2025年8月29日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

2025年8月7日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年夏版)

2025年7月30日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。

ナノインプリントの材料、プロセスの設計とVR/AR、半導体プロセスへの応用技術

2025年7月15日(火) 10時30分2025年7月25日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ナノインプリントについて取り上げ、ナノインプリントリソグラフィ (NIL) の原理、長所と短所、欠陥対策、そして今注目を集める応用技術を詳解いたします。

ナノインプリントの材料、プロセスの設計とVR/AR、半導体プロセスへの応用技術

2025年7月4日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、ナノインプリントについて取り上げ、ナノインプリントリソグラフィ (NIL) の原理、長所と短所、欠陥対策、そして今注目を集める応用技術を詳解いたします。

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

2025年7月1日(火) 13時00分2025年8月29日(金) 15時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

リソグラフィ技術の基礎およびEUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望

2025年7月1日(火) 13時00分2025年8月28日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィ技術を取り上げ、微細加工の基礎、フォトリソグラフィ技術の原理、フォトリソグラフィ技術の材料、EUVリソグラフィ技術の応用事例について分かりやすく丁寧に解説いたします。

半導体露光技術の発展、およびEUV露光装置の現状と将来展望

2025年6月3日(火) 13時00分2025年6月16日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィ用光源開発の最新動向から最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について解説いたします。
また、半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィから、各露光装置について、レジスト材料の原理までを解説いたします。

半導体レジスト材料・周辺技術 (4セミナーセット)

2025年6月2日(月) 13時00分2025年6月27日(金) 15時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

物理学で理解するEUVリソグラフィの基礎・応用・課題と将来展望

2025年5月30日(金) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィ技術を取り上げ、微細加工の基礎、フォトリソグラフィ技術の原理、フォトリソグラフィ技術の材料、EUVリソグラフィ技術の応用事例について分かりやすく丁寧に解説いたします。

半導体露光技術の発展、およびEUV露光装置の現状と将来展望

2025年5月20日(火) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィ用光源開発の最新動向から最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について解説いたします。
また、半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィから、各露光装置について、レジスト材料の原理までを解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2025年5月13日(火) 10時30分2025年5月26日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

2025年5月8日(木) 13時00分2025年5月21日(水) 15時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

2025年5月2日(金) 13時00分2025年6月27日(金) 15時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2025年4月22日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

2025年4月17日(木) 13時00分15時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

リソグラフィ技術の基礎およびEUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望

2025年4月1日(火) 13時00分2025年6月27日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィ技術を取り上げ、微細加工の基礎、フォトリソグラフィ技術の原理、フォトリソグラフィ技術の材料、EUVリソグラフィ技術の応用事例について分かりやすく丁寧に解説いたします。

EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望

2025年3月19日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。

EUVレジストの高感度化、感度測定とメタルレジストの反応機構

2025年3月6日(木) 10時30分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

ブロック共重合体 (BCP) を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向・展望

2025年2月13日(木) 10時20分12時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、ブロック共重合体 (BCP) の基礎から、DSA技術の基礎・メリット・課題、DSAパターン形成に必要な材料、誘導自己組織化技術、BCPの次世代微細加工用レジストへの展開を見据えた最近の研究例など、90分で同技術の基礎・課題・動向を解説いたします。

レジスト/EUVレジスト・微細加工用材料の基礎と具体的なトラブル対策

2025年2月6日(木) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィの基礎知識・最新技術、レジスト材料・微細加工用材料の基礎、微細加工用材料の特性、レジスト材料・微細加工用材料の課題・対策、レジスト材料の最新技術・ビジネス動向まで、具体的に分かりやすく解説いたします。

リソグラフィ技術の基礎およびEUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望

2025年1月31日(金) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、リソグラフィ技術を取り上げ、微細加工の基礎、フォトリソグラフィ技術の原理、フォトリソグラフィ技術の材料、EUVリソグラフィ技術の応用事例について分かりやすく丁寧に解説いたします。

レジスト・微細加工用材料への要求特性と最新技術動向

2024年10月18日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、溶解阻害型や化学増幅型などレジストの基礎からメタルレジスト含むEUVレジストまで、各種微細加工・リソグラフィ技術やレジスト材料の基礎から、最新動向・展望までを幅広く解説いたします。

EUVリソグラフィーの基礎から最新技術開発の現状、課題と今後の半導体微細加工技術の展開

2024年9月18日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2024年8月21日(水) 10時30分2024年9月3日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望

2024年7月30日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。

リソグラフィ技術の発展とレジスト材料の原理および半導体高密度化への展開

2024年7月29日(月) 12時30分2024年7月31日(水) 16時40分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィ用光源開発の最新動向から最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について解説いたします。
また、半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィから、各露光装置について、レジスト材料の原理までを解説いたします。

リソグラフィ技術の発展とレジスト材料の原理および半導体高密度化への展開

2024年7月18日(木) 12時30分16時40分
オンライン 開催

本セミナーでは、EUVリソグラフィ用光源開発の最新動向から最先端のハイブリッドDUVレーザーの高密度実装への応用の現状について解説いたします。
また、半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィから、各露光装置について、レジスト材料の原理までを解説いたします。

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