技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

クリーンルームのセミナー・研修・出版物

クリーンルーム工場での環境管理と各々設備の保守・保全のポイント

2026年4月14日(火) 11時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

はんだ付け実装ラインでは、温湿度・異物・静電気・振動といったクリーンルーム環境管理が品質を大きく左右します。
本セミナーでは、実装現場で実際に必要とされる工場環境管理の考え方、印刷機・マウンター・リフロー炉・フロー槽など各設備の具体的な保守・保全ポイントを体系的に解説いたします。

食品製造工場の点検と監査のポイント

2026年4月10日(金) 13時00分16時00分
オンライン 開催

一度の食品事件・事故が会社存続の危機を招きます。
本セミナーでは、長年に渡って様々な食品工場で品質管理業務を経験してきた講師が、安全で安心な食品を届け続けるために必要な管理・基準作り・チェックの勘所を、事例ベースに解説いたします。

実践的クリーンルーム入門 (Q&A形式)

2026年4月10日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、クリーンルームをはじめとする微生物・微粒子の管理ノウハウについて基礎から解説いたします。

GMPが適用されないラボにおける封じ込めの基本事項と初期段階でのハザードアセスメント

2026年4月6日(月) 10時00分2027年3月31日(水) 16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、開発初期段階のハザードアセスメント、ラボにおける一次封じ込め・二次封じ込めの設計、非常時対策、環境モニタリング、ラボの実例について、豊富な経験に基づき、事例を交え分かりやすく解説いたします。

半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー

2026年3月27日(金) 10時00分17時00分
2026年4月17日(金) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

クリーンルームにおける清浄度管理および作業員教育

2026年3月26日(木) 10時00分16時30分
会場・オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで

2026年3月17日(火) 10時00分17時00分
東京都 開催 会場・オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスの微細化に伴い、ブレイクスルーが求められるクリーン化技術、洗浄・乾燥技術について取り上げ、歩留まり向上のための実践ノウハウについて、基礎から最先端技術までを豊富な事例を交えて分かりやすく解説いたします。
また、先端半導体製造ラインにおける汚染の実態や防止策についても多数の実例写真で紹介いたします。

半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術

2026年3月11日(水) 10時30分2026年3月25日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。

基礎から学ぶ原薬GMPガイドラインと実践

2026年3月11日(水) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、国内・国外の製造所監査で得た生々しい事例を交え、原薬GMPガイドラインの「なぜ」・「どうする」を解説いたします。
GMPの成り立ちから国際規制の理解はもちろん、工場重要12項目、現場巡回方法といった実践力に直結する内容を習得いただけます。

半導体デバイスで良品を作るためのクリーン化技術

2026年3月10日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体デバイスにおけるクリーン化技術について取り上げ、汚染物質と微粒子がデバイス性能に与える影響を明らかにし、そのために必要なテクノロジーを解説いたします。

知っておくべきクリーンルームの基礎知識

2026年3月6日(金) 10時30分2026年3月13日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

知っておくべきクリーンルームの基礎知識

2026年3月4日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム

2026年2月10日(火) 10時30分2026年2月20日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の洗浄について基礎から解説し、半導体洗浄プロセスの流れ、汚れの除去メカニズム、洗浄効果を高める考え方、課題の原因と対策・未然防止について詳解いたします。

半導体産業におけるクリーン化技術の基礎とノウハウ

2026年2月6日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、長年、講師がスーパークリーンルーム内で先端製品の開発製造に携わった経験から、ユーザー視点における半導体洗浄やクリーン化技術の要点とノウハウを丁寧に解説いたします。
特に、半導体、有機・無機・金属等の微小欠陥の性質や、これらの付着除去・管理・計測方法、および固体表面と固液界面の性質等について解説いたします。

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

2026年2月3日(火) 10時30分2026年2月26日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

知っておくべきクリーンルームの基礎知識

2026年2月3日(火) 10時30分2026年2月10日(火) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

半導体製造プロセス 2セミナー

2026年2月3日(火) 10時30分2026年2月26日(木) 16時30分
オンライン 開催

知っておくべきクリーンルームの基礎知識

2026年1月30日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、初めてクリーンルームに携わる方のほか、クリーンルームに関わる技術を一度体系的に学びたい方を対象に、クリーンルームの基礎知識を分かりやすく、動画や実データを用いて解説いたします。

半導体洗浄における洗浄機内の流れとメカニズム

2026年1月30日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体の洗浄について基礎から解説し、半導体洗浄プロセスの流れ、汚れの除去メカニズム、洗浄効果を高める考え方、課題の原因と対策・未然防止について詳解いたします。

クリーンルームにおけるゴミ・異物対策および静電気対策の基礎と実践

2026年1月28日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームの維持管理の基本と効果的な管理方法について、事例を交えてわかりやすく解説いたします。

フィルムの乾燥とプロセスの最適化、トラブル対策

2026年1月23日(金) 10時30分2026年2月2日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

基礎から学ぶ原薬GMPガイドラインと実践

2026年1月20日(火) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、国内・国外の製造所監査で得た生々しい事例を交え、原薬GMPガイドラインの「なぜ」・「どうする」を解説いたします。
GMPの成り立ちから国際規制の理解はもちろん、工場重要12項目、現場巡回方法といった実践力に直結する内容を習得いただけます。

半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

2026年1月19日(月) 13時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

クリーンルームにおける維持管理の基礎、異物管理と静電気対策の具体例

2026年1月16日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーン化技術の基礎から解説し、異物不良を大きく低減させる方法について、実験動画や事例を交えてわかりやすく解説いたします。

実験室における高薬理活性物質の取り扱い/封じ込め対応と区分による要求レベル

2026年1月15日(木) 13時00分2026年1月28日(水) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、GMPが適用されないラボを対象に、封じ込めの基本的な事項、初期段階でのハザードアセスメント、ラボに特化した封じ込め設計手順、代表的な封じ込め機器と使用上の留意点、空調・更衣室の考え方、廃棄物処理、薬塵測定モニタリング、高薬理ラボの事例について紹介いたします。

フィルムの乾燥とプロセスの最適化、トラブル対策

2026年1月14日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、乾燥プロセスのイメージ作りができるよう、乾燥現象の基礎と留意点についてわかりやすく解説いたします。
基礎理論を紹介した上で、演習ツールを活用して、実際の乾燥条件の計算方法を紹介いたします。
更に、風ムラやベナールセルなど塗工品で発生する面状トラブルの原因と対策についても解説いたします。

静電気の基礎知識と現場で役立つ静電気測定・対策

2026年1月14日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、クリーンルームについて取り上げ、作業員の衣服や所持品、動作や衛生管理など各ケースの (発塵量比較) データを提示しながら、教育管理について科学的かつ平易に解説いたします。

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