技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、精密洗浄の基礎から解説し、水の動きを一つの軸として半導体洗浄が直感でわかるようになるポイント、半導体洗浄にまつわる課題と対策・未然防止策を解説いたします。
(2024年7月26日 10:00〜12:00)
半導体製造において、洗浄は品質や歩留まりを向上するために欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から次世代半導体の洗浄課題、最新洗浄技術までを本セミナーで解説します。
まずは、半導体洗浄の装置や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。また洗浄後は、濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があります。乾燥は洗浄とセットとなる重要なプロセスであるため、乾燥工程にフォーカスを当て解説します。
その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄と乾燥課題に触れていきます。最先端半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由を解説し、最先端の洗浄技術を紹介します。
本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。
(2024年7月26日 13:00〜14:00)
パーティクルは製造工程や製品において影響を及ぼすため、パーティクルの洗浄による除去は重要な課題であり、近年さらにその重要性を増している。
本講演では、パーティクル洗浄の概要、洗浄メカニズムを説明するとともに、パーティクル洗浄に適した水系洗浄剤の開発とその効果についても解説する。
(2024年7月26日 14:10〜15:10)
本講演では、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機における水の流れを可視化観察動画・静止画と計算例で眺め、より効果的な洗浄に向けた全体像が直感で分かることを目指します。
それを起点にして、洗浄効果を上げるための評価方法について説明して行きます。まとめでは、困ったときの対策について述べます。
(2024年7月26日 15:20〜16:20)
半導体、FPDから金属部品の洗浄において幅広く使用されている超音波洗浄では周波数、洗浄液、リンス、乾燥など非常に多くの検討事項が存在する。本講演では、超音波および洗浄機の種類や特徴および精密洗浄を行う際の注意事項やポイントなど、基本的な内容を紹介する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2025/8/5 | フィルムへの塗工技術とプロセス最適化、トラブル対策 | オンライン | |
| 2025/8/5 | 凍結乾燥プロセス理解に必須な基礎知識と乾燥速度決定メカニズム/品質変化進行メカニズムの理解、品質劣化対策 | オンライン | |
| 2025/8/5 | 半導体の発熱と伝熱経路の把握、熱設計 | オンライン | |
| 2025/8/6 | 目的・種類・顧客ニーズに沿った洗浄化粧品開発時における処方設計/評価/安全性確保 | オンライン | |
| 2025/8/7 | 感光性レジストの基礎、材料設計と環境に優しい剥離技術 | オンライン | |
| 2025/8/7 | 半導体材料のウェットエッチング加工の基礎と動向 | オンライン | |
| 2025/8/7 | 半導体パッケージの基礎知識、技術動向と課題 | オンライン | |
| 2025/8/8 | パワーモジュールパッケージの高耐熱化・低熱抵抗化の技術動向 | 大阪府 | 会場 |
| 2025/8/8 | 化学プロセスのスケールアップのための化工計算入門 | オンライン | |
| 2025/8/8 | 半導体製造における後工程・実装・設計の基礎・入門講座 | オンライン | |
| 2025/8/8 | 多結晶半導体薄膜の基礎と応用技術 | オンライン | |
| 2025/8/12 | 半導体製造プロセス技術 入門講座 | オンライン | |
| 2025/8/18 | フィルムへの塗工技術とプロセス最適化、トラブル対策 | オンライン | |
| 2025/8/18 | 半導体材料のウェットエッチング加工の基礎と動向 | オンライン | |
| 2025/8/18 | 化学プロセスにおけるラボからのスケールアップ (反応・攪拌・晶析・濾過・乾燥・粉砕・工程別) の基礎と事例集 | オンライン | |
| 2025/8/18 | 塗工技術 (スピン、バー、アプリケーター、スロットダイ、グラビア、コンマ、メニスカス方式) の基本とノウハウ、スケールアップ | オンライン | |
| 2025/8/25 | Roll To Roll製造と各工程における要素技術の実践 | オンライン | |
| 2025/8/25 | 低分子・高分子の高活性物質を扱う共用設備での洗浄評価基準と洗浄管理の留意点 | オンライン | |
| 2025/8/26 | 凍結乾燥 2日コース 基礎理解から実製造でのポイント | オンライン | |
| 2025/8/26 | 医薬品凍結乾燥の条件設定、設備、バリデーション、スケールアップおよび失敗事例と改善 (パラメータ変更) | オンライン |
| 発行年月 | |
|---|---|
| 2022/6/17 | 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望 |
| 2022/6/13 | パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版) |
| 2022/6/13 | パワー半導体〔2022年版〕 |
| 2022/5/31 | 分離工学の各単位操作における理論と計算・装置設計法 |
| 2021/11/12 | レジスト材料の基礎とプロセス最適化 |
| 2021/6/18 | 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
| 2021/3/30 | 経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ (製本版＋ebook版) |
| 2021/3/30 | 経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ |
| 2020/7/17 | 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
| 2020/5/29 | 凍結乾燥工程のバリデーションとスケールアップおよびトラブル対策事例 |
| 2019/7/19 | 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
| 2019/4/24 | 洗浄バリデーション実施ノウハウと実務Q&A集 |
| 2018/12/27 | 押出成形の条件設定とトラブル対策 |
| 2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
| 2018/1/10 | SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント |
| 2017/9/25 | 乾燥技術の基礎とトラブル対策 |
| 2014/10/31 | 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
| 2014/10/31 | 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 |
| 2014/9/30 | 液体または蒸気による洗浄技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
| 2014/9/30 | 液体または蒸気による洗浄技術 技術開発実態分析調査報告書 |