特許情報分析(パテントマップ)から見た

液体または蒸気による洗浄技術技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)

～テーマ別動向予測シリーズ～

洗浄

概要

本調査報告書は、「液体または蒸気による洗浄技術」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
液体または蒸気による洗浄技術技術開発実態分析調査報告書の書籍版もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

「液体または蒸気による洗浄技術」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

(1). どの液体または蒸気による洗浄技術関連企業にどのような技術の公開があるか、
(2). 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
(3). 最近10年余における関連技術の消長はどのようになっているか、
(4). 各企業間の連携状況はどのようになっているか、
(5). 直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
(6). この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか、
等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は、「液体または蒸気による洗浄技術」に関する最近10年余(国内公開日:2004年1月1日～2014年7月31日)に及ぶ公開特許について、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は 5,289 件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。

1. パテントマップ編
- A. 全般分析
- B. 上位20出願人比較分析
- C. 上位5出願人個別分析
- D. 特定3社比較分析(1位大日本スクリーン製造、2位東京エレクトロンおよび3位パナソニック)
- E. 上位20特許分類分析
- F. 特定特許分類分析
- G. キーワード分析
- H. 直近2年間の動向分析(2012年8月～2014年7月)
- I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
2. パテントチャート編
3. 総括コメント

4. 本報告書の特徴

「液体または蒸気による洗浄技術」に関する最近10年余、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる
本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 全般分析
- A-1. 全体の技術開発ライフサイクル
- A-2. 公開件数の推移(年次と累計)
- A-3. 出願人数の推移(年次と累計)
- A-4. 新規発明者数の推移(年次と累計)
- A-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
- A-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
- A-7. 新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
- A-8. 出願人別公開件数ランキング(上位100)
- A-9. 発明者別公開件数ランキング(上位50)
- A-10. FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-11. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-12. Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-13. Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-14. 1位Fタームテーマコード3B201の技術分類別件数(着目:2期間)
- A-15. 1位Fタームテーマコード3B201の技術分類別件数(着目:上位5出願人)
- A-16. 出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-17. FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-18. FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-19. Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-20. 出願人別公開件数伸長率(上位50、件数差6件以上)
- A-21. 発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差7件以上)
- A-22. FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差4件以上)
- A-23. FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
- A-24. Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差8件以上)
- A-25. FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差11名以上)
- A-26. FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差12名以上)
- A-27. Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差15名以上)
B. 上位20出願人比較分析
- B-1. 公開件数比較(期間着目:2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- B-2. 公開件数の推移(累計)
- B-3. 共同出願人数の推移(累計)
- B-4. 新規発明者数の推移(累計)
- B-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
- B-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
- B-7. 新規Fターム分類数の推移(累計)
- B-8. 新規キーワード数の推移(累計)
- B-9. 上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- B-10. 上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- B-11. 上位20Fターム分類との公開件数相関
- B-12. 上位2Fタームテーマコード分類における公開件数比較
- B-13. 公開件数占有率
- B-14. 審査・権利状況
- B-15. 公開件数の伸びと1位Fターム分類3B201BB92に関する構成率比較
- B-16. 発明者数*FIサブグループ分類数の比較
C. 上位5出願人個別分析
- C-1-1. 【大日本スクリーン製造】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-2. 【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-3. 【パナソニック】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-4. 【シャープ】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-5. 【花王】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-1. 【大日本スクリーン製造】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-2. 【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-3. 【パナソニック】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-4. 【シャープ】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-5. 【花王】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-3-1. 【大日本スクリーン製造】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-2. 【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-3. 【パナソニック】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-4. 【シャープ】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-5. 【花王】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-1. 【大日本スクリーン製造】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-2. 【東京エレクトロン】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-3. 【パナソニック】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-4. 【シャープ】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-5. 【花王】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-5-1. 【大日本スクリーン製造】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-2. 【東京エレクトロン】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-3. 【パナソニック】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-4. 【シャープ】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-5. 【花王】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-6-1. 【大日本スクリーン製造】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-2. 【東京エレクトロン】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-3. 【パナソニック】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-4. 【シャープ】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-5. 【花王】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-7-1. 【大日本スクリーン製造】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-2. 【東京エレクトロン】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-3. 【パナソニック】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-4. 【シャープ】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-5. 【花王】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-8-1. 【大日本スクリーン製造】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-2. 【東京エレクトロン】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-3. 【パナソニック】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-4. 【シャープ】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-5. 【花王】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-9-1. 【大日本スクリーン製造】共同出願人との連携
- C-9-2. 【東京エレクトロン】共同出願人:0人
- C-9-3. 【パナソニック】共同出願人との連携
- C-9-4. 【シャープ】共同出願人との連携
- C-9-5. 【花王】共同出願人との連携
D. 特定3社比較分析(1位大日本スクリーン製造、2位東京エレクトロンおよび3位パナソニック)
- D-1. 3社の上位10FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
- D-2. 3社の大日本スクリーン製造上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-3. 3社の東京エレクトロン上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-4. 3社のパナソニック上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-5. 3社の3B201AA(液体または蒸気による洗浄>被清浄物の形状・形態)のFターム分類別公開件数比較(上位10)
- D-6. 3社の3B201AB(液体または蒸気による洗浄>被清浄物の取扱い)のFターム分類別公開件数比較(上位20)
- D-7. 3社の3B201BB(液体または蒸気による洗浄>流体的清浄手段)のFターム分類別公開件数比較(上位20)
- D-8. 3社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
- D-9. 3社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位20)
- D-10. 大日本スクリーン製造の公開件数伸び変遷
- D-11. 東京エレクトロンの公開件数伸び変遷
- D-12. パナソニックの公開件数伸び変遷
- D-13. 3社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
- D-14. Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)
E. 上位20特許分類分析
- E-1. FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- E-2. FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- E-3. Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- E-4. FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-5. FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-6. Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-7. FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-8. FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-9. Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-10. FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-11. FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-12. Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-13. FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-14. FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-15. Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
F. 特定特許分類分析
- F-1. 特定特許分類分析(1)
  - F-1-1. 特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-2. 特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-3. 特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-4. 特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-5. 特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-6. 特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-7. 特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-8. 特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-9. 特定FIサブグループ分類B08B3/02の公開件数伸長率変遷
  - F-1-10. 特定FIサブグループ分類B08B3/08の公開件数伸長率変遷
  - F-1-11. 特定Fターム分類3B201BB92の公開件数伸長率変遷
  - F-1-12. 特定Fターム分類3B201BB82の公開件数伸長率変遷
  - F-1-13. 特定FIサブグループ分類B08B3/02の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-14. 特定FIサブグループ分類B08B3/08の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-15. 特定Fターム分類3B201BB92の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-16. 特定Fターム分類3B201BB82の出願人別公開件数ランキング(上位50)
- F-2. 特定特許分類分析(2)
  - F-2-1. 特定Fターム分類3B201AA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-2. 特定Fターム分類3B201AB関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-3. 特定Fターム分類3B201BB関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-4. 特定Fターム分類3B201CD関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-5. 特定Fターム分類3B201AA関連の公開件数グロスランキング(上位20)
  - F-2-6. 特定Fターム分類3B201AB関連の公開件数グロスランキング(上位20)
  - F-2-7. 特定Fターム分類3B201BB関連の公開件数グロスランキング(上位20)
  - F-2-8. 特定Fターム分類3B201CD関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-9. 特定Fターム分類3B201AA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-10. 特定Fターム分類3B201AB関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-11. 特定Fターム分類3B201BB関連の公開件数の推移(上位40、年次)
  - F-2-12. 特定Fターム分類3B201CD関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-13. 特定Fターム分類3B201AA関連(上位20)と3B201AB関連(上位20)との公開件数相関
  - F-2-14. 特定Fターム分類3B201AA関連(上位20)と3B201BB関連(上位20)との公開件数相関
  - F-2-15. 特定Fターム分類3B201AA関連(上位20)と3B201CD関連との公開件数相関
  - F-2-16. 特定Fターム分類3B201AB関連(上位20)と3B201BB関連(上位20)との公開件数相関
  - F-2-17. 特定Fターム分類3B201AB関連(上位20)と3B201CD関連との公開件数相関
  - F-2-18. 特定Fターム分類3B201BB関連(上位20)と3B201CD関連との公開件数相関
  - F-2-19. 特定Fターム分類3B201AA関連(上位20)と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-20. 特定Fターム分類3B201AB関連(上位20)と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-21. 特定Fターム分類3B201BB関連(上位20)と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-22. 特定Fターム分類3B201CD関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-23. 特定Fターム分類3B201AA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-24. 特定Fターム分類3B201AB関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-25. 特定Fターム分類3B201BB関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-26. 特定Fターム分類3B201CD関連の公開件数伸長率変遷
G. キーワード分析
- G-1. キーワード別公開件数ランキング(上位100)
- G-2. キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数10件以上)
- G-3. キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差7件以上)
H. 直近2年間の動向分析(2012年8月～2014年7月)
- H-1. 出願人別公開件数ランキング(上位20)
- H-2. 出願人別公開件数占有率(上位20)
- H-3. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-4. FIサブグループ分類1位B08B3/02と他分類との相関(上位20)
- H-5. Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-6. Fターム分類1位3B201BB92と他分類との相関(上位20)
- H-7. 上位20出願人と上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- H-8. 上位20出願人と上位20Fターム分類との公開件数相関
I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
- I-1. 弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)
- I-2. 弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(上位40、年次)
- I-3. 上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- I-4. 上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関

2. パテントチャート編

(1). シブヤマシナリーの時系列チャート分析(2004年～2014年7月)
(2). ジャパン・フィールドの時系列チャート分析(2004年～2014年7月)
(3). シブヤマシナリーの上位2Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析(2004年～2012年7月)
(4). ジャパン・フィールドの上位2Fタームテーマコード分類と上位2発明者のマトリクスチャート分析(2004年～2012年7月)
(5). シブヤマシナリーのFタームテーマコード3B201の技術分類マトリクスチャート
(6). 中田勇一(シブヤマシナリー)の公報3件のサイテーションマップ

3. 総括コメント

参考資料

資料1 : 出願人統合リスト
資料2 : 大日本スクリーン製造の2007年～2014年7月における全公報262件の審査権利状況リスト
資料3 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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出版社

株式会社パテントテック社

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お問い合わせ

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体裁・ページ数

CD-ROM (PDF版書籍、Viewerソフトウェア、パテントマップ・チャート添付) 240ページ

ISBNコード

978-4-86483-418-6

発行年月

2014年9月

販売元

tech-seminar.jp

価格

37,800円 (税別) / 41,580円 (税込)

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開始日時		会場	開催方法
2024/4/26	洗浄技術と洗浄プロセス最適化の総合知識		オンライン
2024/4/26	超音波洗浄の基礎と効果的な活用方法		オンライン
2024/5/14	洗浄技術と洗浄プロセス最適化の総合知識		オンライン
2024/5/21	GMP工場の設備設計および維持管理のポイント		オンライン
2024/5/22	医療機器洗浄バリデーションセミナー		オンライン
2024/5/23	医薬品洗浄バリデーションセミナー		オンライン
2024/5/30	半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術		オンライン
2024/5/30	半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法		オンライン
2024/5/31	GMP工場の設備設計および維持管理のポイント		オンライン
2024/6/13	半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法		オンライン
2024/6/24	リスクマネジメント/ワーストケースアプローチに基づく洗浄バリデーション実施 (残留限度値・DHT/CHT設定など) と残留物の評価法		オンライン
2024/6/26	生産移行後のトラブルを未然に防ぐための製造設備および支援設備のバリデーション	東京都	会場・オンライン
2024/7/4	リスクマネジメント/ワーストケースアプローチに基づく洗浄バリデーション実施 (残留限度値・DHT/CHT設定など) と残留物の評価法		オンライン
2024/7/18	超音波洗浄の基礎・メカニズムから効果的な活用方法		オンライン
2024/7/23	半導体デバイスの物理的洗浄手法		オンライン
2024/7/26	超音波洗浄の基礎・メカニズムから効果的な活用方法		オンライン
2024/8/19	半導体デバイスの物理的洗浄手法		オンライン
2024/8/23	半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術および最先端技術		オンライン

発行年月
2023/9/29	先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2022/6/17	経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ (追補版)
2021/3/30	経験/査察指摘/根拠文献・規制から導く洗浄・洗浄バリデーション:判断基準と実務ノウハウ
2019/4/24	洗浄バリデーション実施ノウハウと実務Q&A集
2014/9/30	液体または蒸気による洗浄技術技術開発実態分析調査報告書
2014/5/30	コンタクトレンズ用洗浄・殺菌消毒剤技術開発実態分析調査報告書(CD-ROM版)
2014/5/30	コンタクトレンズ用洗浄・殺菌消毒剤技術開発実態分析調査報告書
2013/9/2	原薬・中間体製造プロセスにおける課題と対策
2009/6/30	目的に合った界面活性剤の上手な使い方と選定方法
2009/4/5	洗浄剤技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/4/5	洗浄剤技術開発実態分析調査報告書
1991/3/1	プリント配線板洗浄技術

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