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本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

本セミナーでは、プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象 (電離、解離、拡散、消滅) を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明いたします。

本セミナーでは、新しいパワーデバイス半導体の材料として大きな注目を浴びている酸化ガリウム (Ga2O3) について、2名の講師がそれぞれの見地から解説いたします。
第1部では、5つの結晶多形ごとの異なる特徴や薄膜形成技術、またそれぞれの課題などについて説明いたします。
第2部では、酸化ガリウム (Ga2O3) の主要な薄膜形成手法であるミストCVDに焦点をあて、その概要とミストCVDによって作製した酸化ガリウム薄膜、酸化ガリウム半導体デバイスの特性等について解説いたします。

本セミナーでは、粉体へ酸化物やポリマーを均一にコーティングするために粉体の基礎・表面処理法から実際の調製までを詳解いたします。

本セミナーでは、シランカップリング剤を実務で効果的に活用するための基礎をわかりやすく説明し、有機-無機ナノハイブリッドや機能材料へ応用するためのナノ粒子の調製と粒径制御、種々な材料への表面処理法や反応、処理表面の分析・解析などの具体的な実験例 (マニュアル) を中心にやさしく説明いたします。

本セミナーでは、講師が長年培ってきたガラスを含めた機能性材料基板の超精密加工プロセス技術について、門外不出のノウハウも含めて徹底的に掘り下げた情報を盛り込みながら、難加工材料のCMP技術や超精密加工プロセス技術などを詳細に解説いたします。
さらに、究極デバイス用ダイヤモンド基板を含めた高効率加工プロセスなどについても言及し、新しい研究開発のビジネスチャンスをつかんでいただく橋渡しをさせていただきます。

本セミナーでは、金属ナノ粒子・微粒子の合成、サイズ・形状制御、表面と金属コアの構造解析、低温焼結、応用について解説いたします。

本セミナーでは、シランカップリング剤の基礎から解説し、シランカップリング剤の選定、反応性評価、表面分析、分析機器の選定、評価について詳解いたします。

本セミナーでは、プラスチックの表面加飾技術について基礎から解説し、低環境負荷の各加飾方法、今後用途展開が広がるバイオマスプラスチックへの加飾技術について解説いたします。

本セミナーでは、用途が広がる大気圧プラズマについて取り上げ、大気圧プラズマの基礎から表面処理、医療、農業、環境等への応用技術まで解説いたします。

本セミナーでは、塗工が専門の講師がRoll To Rollやスロットダイなど塗工における「理論的アプローチ」と「現場ノウハウ」を詳解いたします。

本セミナーでは、塗工が専門の講師がRoll To Rollやスロットダイなど塗工における「理論的アプローチ」と「現場ノウハウ」を詳解いたします。

本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
また、最新研究成果として3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。