技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半導体・ディスプレイ・LEDなどの電子デバイスを支える真空・薄膜形成技術の基礎理論から、蒸着・スパッタ・CVD・ALD、微細加工や装置設計の実務ノウハウまで体系的に解説いたします。
シリコン半導体集積回路素子、化合物半導体機能素子、フラットパネルディスプレイ、固体撮像素子や発光ダイオードなどの電子デバイスによって私たちの生活は飛躍的に豊かになりました。これらの電子デバイスは真空技術を利用した薄膜形成技術によって製造されています。昨今、リスクマネジメントの観点から、これらの電子デバイスの製造を国内回帰する動きが強まっていて、改めて真空と薄膜形成に関する技術への期待が強まっています。
今回、この需要に応えるため電子デバイスの製造技術に使用されている「真空技術の基礎」および「薄膜形成技術の基礎」に関して解説します。特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる薄膜形成技術 (成膜技術) および薄膜を微細加工するドライエッチング技術の基礎を解説します。合わせて、これらの技術で使用する真空下のプロセスプラズマの基礎も解説します。
現在、利用されている機能電子デバイスのみならず、今後、開発・実用化されるトレンドデバイスも間違い無く「真空・薄膜技術」から生まれてくることでしょう。この講義の受講を機会に「真空・薄膜技術」を手に入れられ、皆様のお仕事にお役に立てれば幸いです。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 40,000円(税別) / 44,000円(税込) で受講いただけます。
別途テキストの送付先1件につき、配送料 1,100円(税別) / 1,210円(税込) を頂戴します。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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