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蒸着のセミナー・研修・出版物

大気圧プラズマを用いた材料の表面改質とぬれ性の改善

2025年8月4日(月) 10時30分17時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマの基礎・原理から、大気圧プラズマの使用方法、運用方法、品質管理方法、応用技術までわかりやすく解説いたします。

薄膜技術の基礎

2025年7月30日(水) 10時00分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、実務に必要な真空工学、表面物性工学、プラズマ工学、薄膜工学の知識、各種薄膜形成技術の原理・特徴、所望の特性を得るための薄膜形成条件を決めるための基礎知識、薄膜形成に関するトラブルの診断に必要な基礎について、具体的事例を交えながら詳しく解説いたします。

先端半導体デバイスにおける多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化技術

2025年7月24日(木) 10時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

大気圧プラズマの基礎と各種材料の表面処理等への応用

2025年7月17日(木) 10時30分2025年7月25日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と各種材料の表面処理等への応用

2025年7月15日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

CVD・ALD法による薄膜形成技術のプロセス・反応解析と装置の設計

2025年7月14日(月) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。

グラフェン系材料の基礎、高機能化技術及び応用への展開

2025年6月25日(水) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、グラフェンの特徴や合成方法、CVDグラフェン特有の転写技術、物性を引き出す構造作製の要素技術を、実験室レベルでの扱い方も含めて紹介いたします。
さらに、ドーピングや高移動度化技術、原子層の評価技術を解説し、透明導電膜や電子デバイス、エネルギー応用への展開を説明いたします。

プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応

2025年6月19日(木) 13時00分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2025年6月10日(火) 10時30分2025年6月20日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

CVD/ALDプロセスの反応解析、メカニズムとプロセス最適化

2025年5月30日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

大気圧プラズマによる表面改質と界面評価

2025年5月28日(水) 10時30分16時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマの基礎・原理から、大気圧プラズマの使用方法、運用方法、品質管理方法、応用技術までわかりやすく解説いたします。

CVD・ALD法による薄膜形成技術のプロセス・反応解析と装置の設計

2025年5月23日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。

半導体製造におけるプロセスインフォマティクスの活用技術

2025年4月25日(金) 10時30分16時15分
オンライン 開催

本セミナーでは、実験、シミュレーション、機械学習、AIを利用した半導体製造プロセスの最適化事例を詳解いたします。

光学薄膜技術の総合知識と最新動向

2025年4月21日(月) 13時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、スマートフォン、車載カメラ、プロジェクタ、太陽電池等、様々な光学機器に応用されている光学薄膜について取り上げ、光学薄膜の基礎からコロナウィルス対応などの最近のトレンドまでを詳解いたします。

蒸着法による機能性有機分子の薄膜化技術

2025年4月8日(火) 10時30分2025年4月21日(月) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法の基礎から分子配向制御方法、蒸着重合法や摩擦転写法を含む各種薄膜作製技術、蒸着重合法による均一な高分子膜のコーティング手法について詳細に解説いたします。
さらに、有機LEDや耐久性コーティング技術などの次世代応用事例を交え、電子・光機能性有機薄膜、封止膜や防食膜、耐熱・防汚コーティング技術の実例と将来性についても解説いたします。

フレキシブルデバイス向け ハイバリアフィルムの成膜技術と最新動向

2025年4月1日(火) 13時30分2025年5月29日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、各種手法によるガスバリア膜形成技術・コーティング技術やバリア特性評価法などから、講師らが開発したロール to ロールによるハイガスバリアフィルム作製技術とその特性、そしてPEN・PETフィルム上への成膜について解説いたします。

蒸着法による機能性有機分子の薄膜化技術

2025年3月27日(木) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法の基礎から分子配向制御方法、蒸着重合法や摩擦転写法を含む各種薄膜作製技術、蒸着重合法による均一な高分子膜のコーティング手法について詳細に解説いたします。
さらに、有機LEDや耐久性コーティング技術などの次世代応用事例を交え、電子・光機能性有機薄膜、封止膜や防食膜、耐熱・防汚コーティング技術の実例と将来性についても解説いたします。

薄膜作成の基礎とトラブル対策

2025年3月11日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。

ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向

2025年2月28日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催 会場 開催

本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。

スパッタリングによる成膜の基礎と製膜トラブル対策

2025年2月19日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、スパッタの原理を確認し、さらに最新のカソード技術を紹介しながら、現場の品質向上についても解説いたします。

先端半導体デバイスの多層配線技術と2.5D/3Dデバイス集積化

2025年2月5日(水) 10時30分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

薄膜作製の基礎とトラブル対策

2025年2月4日(火) 10時00分2025年2月6日(木) 17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。

薄膜作製の基礎とトラブル対策

2025年1月29日(水) 10時00分17時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、真空蒸着法、スパッタ法、CVD法などの成膜技術について、基礎から実務への活用法をわかりやすく解説いたします。
また、薄膜評価法や成膜プロセスで遭遇するトラブル例と対処法についても解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2025年1月28日(火) 10時30分2025年1月30日(木) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

CVD・ALD装置の反応プロセス解析事例と展開

2025年1月22日(水) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年12月18日(水) 10時30分2024年12月20日(金) 16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

半導体機能素子製造向けドライプロセス入門

2024年12月10日(火) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、半導体機能素子の製造技術に使用されている「ドライプロセス・装置」および「真空・プラズマ技術」について基礎から解説いたします。
特に真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALDによる成膜技術および薄膜を微細加工するドライエッチング技術を解説いたします。
合わせて、ドライプロセスの基盤となっている真空・プラズマ技術に関して解説いたします。

大気圧プラズマの基礎と低炭素技術への応用

2024年12月6日(金) 10時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

フレキシブルデバイス向け ハイバリアフィルムの成膜技術と最新動向

2024年11月13日(水) 13時30分16時30分
オンライン 開催

本セミナーでは、各種手法によるガスバリア膜形成技術・コーティング技術やバリア特性評価法などから、講師らが開発したロール to ロールによるハイガスバリアフィルム作製技術とその特性、そしてPEN・PETフィルム上への成膜について解説いたします。

二酸化ゲルマニウム (GeO2) の特徴および最新動向

2024年11月12日(火) 13時00分2024年11月14日(木) 15時00分
オンライン 開催

本セミナーでは、新しいパワー半導体として大きな可能性を秘めた二酸化ゲルマニウムを取り上げ、二酸化ゲルマニウムの基礎的な物性、現状の課題、将来性について詳細に解説いたします。

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