技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2025年11月24日〜12月8日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2025年12月5日まで承ります。
本セミナーでは、プロセスプラズマの基礎から解説し、プロセスプラズマ内における活性粒子の生成・消滅 (反応) 過程、活性粒子や荷電粒子の各種計測法の原理・実践方法、活性粒子による反応メカニズムを考慮したプロセス条件の最適化について詳解いたします。
低温プラズマを用いたプロセス技術は、我々の生活に欠かせない半導体デバイスをはじめ機械・電気部品などの広くモノづくりの現場で利用されており、さらに近年では医療やバイオ分野への応用研究も盛んに行われています。この低温プラズマは気体放電により生成されますが、それと同時にその内部では物理・化学的な作用をもたらす数多くの荷電粒子や中性活性粒子も気相中に生成されます。それら粒子が基材上に到達し、引き起こされる表面反応を利用した技術がプラズマプロセスです。そのため、それら粒子の診断・モニタリングすることがプロセス反応の理解とその最適化に向けた課題となります。
今回紹介するプラズマの診断・モニタリング技術は、それら粒子の密度や状態を知るための重要なツールです。本講演では、まずプラズマ内における活性粒子の反応過程など基礎的な解説を行いつつ、それら粒子の分析に利用される各種計測法の原理と具体的な実施例について説明したのち、それを基にしたプラズマプロセスの最適化例を紹介します。以上を通じて、プラズマプロセスにおける活性粒子の診断とモニタリング技術を知って頂くとともに、本技術をもとに分析される反応メカニズムの理解、さらには活性粒子に関する知見を基にしたプロセスの最適化を検討して頂く契機となることを期待します。
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「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/10/16 | 半導体材料と半導体デバイス製造プロセス | オンライン | |
2025/10/21 | 半導体材料と半導体デバイス製造プロセス | オンライン | |
2025/10/28 | クライオエッチングの基礎・現状・課題と低温下における表面反応 | オンライン | |
2025/11/19 | プラズマエッチングにおけるパーティクル・プロセス異常の検出技術と対策 | オンライン | |
2025/11/24 | プラズマプロセスの診断・モニタリングとそれに基づくプロセスの最適化 | オンライン | |
2025/12/3 | プラズマエッチングにおけるプロセス不良発生の検出とプラズマ耐性材料の評価技術 | オンライン | |
2025/12/5 | 半導体製造におけるドライ/ウェットエッチング技術の基礎・応用と最新動向 | 東京都 | 会場 |
2025/12/12 | プラズマエッチングにおけるプロセス不良発生の検出とプラズマ耐性材料の評価技術 | オンライン | |
2025/12/16 | 電子デバイスの製造のための真空・薄膜形成技術の基礎と応用 | オンライン |
発行年月 | |
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2025/5/26 | 表面プラズモン技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (書籍版) |
2025/5/26 | 表面プラズモン技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2025/3/31 | エッチングの高度化と3次元構造の作製技術 |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
2022/10/31 | 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 |
2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
2021/3/8 | プラズマ技術 |
2019/12/20 | 高分子の表面処理・改質と接着性向上 |
2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2012/3/5 | 大気圧プラズマの生成制御と応用技術 改訂版 |
1991/3/1 | 光学薄膜技術 |