第1章 液晶パネル製造プロセス概論

• 1. はじめに
• 2. 液晶パネル製造プロセスの概要
• 3. 製造環境について
• 4. ガラス基板プロセス
  • 4.1 ガラス基板
  • 4.2 透明電極プロセス
  • 4.3 アクティブマトリクス液晶ディスプレイ基板プロセス
  • 4.4 カラーフィルタプロセス
• 5. パネル組立プロセス
  • 5.1 オーバコートプロセス
  • 5.2 配向プロセス
  • 5.3 貼合わせプロセス
  • 5.4 液晶注入プロセス
  • 5.5 偏光板貼り付プロセス
  • 5.6 モジュール化プロセス
• 6. 液晶パネルの信頼性

第2章 カラーフィルタ作成技術

第1節 液晶パネル用高精度カラーフィルタの開発

• 1. はじめに
• 2. 直接法
  • 2.1 感光性樹脂 (高分子) による方法
  • 2.2 電子写真感材による方法
  • 2.3 銀塩感材および化学発色法
• 3. 転写法
  • 3.1 1回使用マスタパターン転写法
  • 3.2 繰り返し使用できるマスタを使う法
• 4. おわりに

第2節 電着転写法によるカラーフィルタの作成技術

• 1. はじめに
• 2. 各種カラーフィルタの製造方法およびその課題
• 3. 電着転写法によるカラーフィルタの製造方法
  • 3.1 レジスト現像工程
  • 3.2 電着塗布工程
  • 3.3 転写工程
  • 3.4 生成したカラーフィルタの特徴
• 4. 電着転写プロセスの特徴
• 5. おわりに

第3章 液晶パネルにおける位相差フィルム策作成技術

• 1. 概説
• 2. 位相差フィルムによるSTNの白黒化
  • 2.1 白黒化原理
  • 2.2 解析法
  • 2.3 光学特性
  • 2.4 積層法の最適化
• 3. 位相差フィルムによるLCDの視角特性改善
  • 3.1 視角補正原理
  • 3.2 LCDの視角特性
  • 3.3 厚さ方向屈折率の最適化

第4章 液晶パネルにおけるパターニング技術

第1節 液晶パネルにおける薄膜製造技術

• 1. 概説
• 2. 縦型両面インライン成膜装置
• 3. インラインP-CVD装置
  • 3.1 P-CVD装置の構造と概要
  • 3.2 P-CVD装置の実際
• 4. インラインスパッタ装置
  • 4.1 スパッタ装置の概要
  • 4.2 スパッタ装置の実際
  • 4.3 ITO成膜の特性
• 5. 今後の課題

第2節 液晶パネルにおける露光技術 (1)

• 1. 露光装置の決定
  • 1.1 プロキシミティ露光機
  • 1.2 ミラープロジェクションステッパ
  • 1.3 プロジェクションレンズステッパ
• 2. スループットへの配慮
• 3. つなぎ合わせ
• 4. パネルスケーリングと重ね合わせ
• 5. 機械の高インテリジェント機構
• 6. まとめ

第3節 液晶パネルにおける露光技術 (2)

• 1. はじめに
• 2. ステッパの基本構成
  • 2.1 超高圧水銀灯、楕円鏡、波長フィルタ
  • 2.2 フライアイ
  • 2.3 レチクルブラインド
  • 2.4 レチクル、レチクルチェンジャ
  • 2.5 レチクルアライメント機構
  • 2.6 投影レンズ
  • 2.7 プレートアライメント機構
  • 2.8 AF機構
  • 2.9 ステージ
• 3. 主な特長と性能向上
  • 3.1 画面合成の考え方
  • 3.2 高スループット化
  • 3.3 高精度化
• 4. 今後の展開
  • 4.1 画面の高精細化
  • 4.2 画面の大型化
  • 4.3 まとめ

第4節 液晶パネルにおける洗浄技術

• 1. 概説
• 2. 洗浄工程
  • 2.1 洗浄装置に投入する基板の表面状態
  • 2.2 洗浄度評価法
• 3. 洗浄装置
  • 3.1 ブラシスクラブ洗浄
  • 3.2 超音波洗浄
  • 3.3 乾燥処理
• 4. 洗浄装置の高清浄化と省スペース化
  • 4.1 性能向上
  • 4.2 洗浄装置の高清浄化 (クリーン化)
  • 4.3 省スペース化
• 5. 洗浄プロセッサ
• 6. おわりに

第5章 液晶パネルにおける組立技術

第1節 配向膜形成技術

• 1. まえがき
• 2. 配向膜塗布に求められるもの
• 3. 成膜工程
  • 3.1 基板洗浄
  • 3.2 配向膜印刷
  • 3.3 乾燥、硬化
• 4. 今後の課題

第2節 ラビング技術

• 1. ラビング技術の概要
• 2. 配向制御
• 3. 塵埃・汚染対策
• 4. 静電気対策
  • 4.1 装置側での対策
  • 4.2 プロセス・製品側での対策
• 5. 実機の構造について
  • 5.1 視角調整と精度の確保
  • 5.2 バフローラーとラビング精度
  • 5.3 基板搬送機構と装置全体の塵埃対策

第3節 スペーサ分散技術

• 1. はじめに
• 2. スペーサとスペーサの役割
  • 2.1 シール部スペーサ
  • 2.2 セル内スペーサ
• 3. スペーサのセル内分散とセルギャップ
• 4. セル内スペーサの分散
  • 4.1 スペーサの均一な分散配置
  • 4.2 公開特許公報より見たスペーサ分散技術の推移
• 5. おわりに

第4節 セル組立技術 (基板重ね合わせ装置)

• 1. はじめに
• 2. 基本構成
  • 2.1 上基板供給機、下基板供給機
  • 2.2 プリアライメント部
  • 2.3 表裏反転部 (上基板用)
  • 2.4 UV塗布部
  • 2.5 重ね合わせ部 (UV照射部)
  • 2.6 収納部
• 3. 主なる仕様
  • 3.1 ワーク形状
  • 3.2 合わせ精度、合わせマーク
  • 3.3 加圧力
  • 3.4 スループット
  • 3.5 クリーン対策

第6章 液晶パネルにおける検査・修正技術

第1節 液晶パネルにおけるプローブ技術

• 1. はじめに
• 2. プロービングの現状
  • 2.1 タングステン製プローブ針
  • 2.2 新タイプのプローブ針
  • 2.3 ラバーコネクタ
• 3. LCDのオープン/ショート検査
  • 3.1 LCDの導通検査
  • 3.2 その他のプローバ
• 4. LCDパネルの目視感応検査
  • 4.1 概要
  • 4.2 簡易型目視検査機
• 5. おわりに

第2節 液晶パネルにおけるセルギャップ測定技術

• 1. まえがき
• 2. 膜厚測定装置の要説
  • 2.1 測定原理
  • 2.2 装置の仕様
• 3. セルギャップ測定方式
  • 3.1 空気ギャップ測定
  • 3.2 液晶注入セルのギャップ測定
  • 3.3 カラー液晶パネルのギャップ測定
• 4. あとがき

第3節 液晶パネルにおけるリペア技術

• 1. まえがき
• 2. 装置の概要
  • 2.1 レーザおよび光学系
  • 2.2 ステージ系
  • 2.3 制御系
• 3. 今後の展開

第7章 液晶パネルにおける評価技術

• 1. はじめに
• 2. セル厚測定
  • 2.1 薄い空セル
  • 2.2 ITO膜付き空セル
  • 2.3 液晶セル
  • 2.4 複屈折位相差を用いる方法
• 3. 膜厚測定
  • 3.1 ガラス基板上のITO膜
  • 3.2 ガラス基板上のITO膜上の配向膜
• 4. 複屈折位相差
  • 4.1 位相差フィルム
  • 4.2 ねじれのない液晶セル
  • 4.3 STN液晶セル
  • 4.4 屈折率楕円体
• 5. 色度測定
  • 5.1 L*a*b*色差式
  • 5.2 L*u*v*色差式
  • 5.3 カラーフィルタの色度測定
• 6. 電気光学特性
  • 6.1 しきい値特性
  • 6.2 応答特性
• 7. プレティルト角測定
• 8. 配向膜のラビングモニタ

• 索引