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磁性薄膜の測定法

磁性薄膜の測定法

目次

第1章 磁性の基礎

  • 1 概説磁気の単位系
    • 1.1 SI単位系
    • 1.2 cgs単位系の特徴
  • 2 磁性概説
    • 2.1 物質の磁性
    • 2.2 磁性体の種類
    • 2.3 磁性薄膜の特徴
  • 3 磁性体の磁化
    • 3.1 磁化の発現機構
    • 3.2 磁化の温度・磁場依存性
    • 3.3 金属・合金の磁化
    • 3.4 酸化物・化合物の磁化
  • 4 磁気異方性と磁歪
    • 4.1 磁気異方性とその発現機構
    • 4.2 磁歪とその発現機構
  • 5 磁気構造
    • 5.1 磁壁
    • 5.2 磁区
  • 6 磁化過程
    • 6.1 磁壁移動過程と回転磁化過程
    • 6.2 磁気ヒステリシス環線
  • 7 電流磁気効果
    • 7.1 電流抵抗
    • 7.2 電流磁気効果
    • 7.3 ホール効果
    • 7.4 磁気抵抗効果

第2章 磁気異方性の測定法

  • 1 緒言
  • 2 磁気曲線による磁気異方性の測定法
  • 3 トルク曲線による磁気異方性の測定法
    • 3.1 測定原理
    • 3.2 磁気異方性の求め方
    • 3.3 薄膜への適用例
  • 4 強磁性共鳴による磁気異方性の測定法
    • 4.1 磁性共鳴の理論
    • 4.2 磁気異方性がある場合の共鳴式
    • 4.3 薄膜への適用例
    • 4.4 人工格子膜への適用例

第3章 磁歪の測定法

  • 1 概説
  • 2 立法晶および六方晶での磁歪
    • 2.1 単結晶での磁歪
    • 2.2 多結晶および非晶質での磁歪
  • 3 光学的計測法
    • 3.1 計測原理と測定法
    • 3.2 各種薄膜への適用例
  • 4 その他の計測法

第4章 磁区観察法

第1節 磁区観察法-1
  • 1 ビッター法
    • 1.1 試料の表面処理
    • 1.2 強磁性コロイド
    • 1.3 磁区図形観察法
  • 2 磁気光学的方法
    • 2.1 システムの概要
    • 2.2 画像処理法
    • 2.3 磁区画像
  • 3 ローレンツ顕微鏡法
    • 3.1 デフォーカス法
    • 3.2 スリット法
第2節 磁区観察法-2~スピン偏極走査電子顕微法
  • 1 概説
  • 2 磁区観察の原理と装置の構造
  • 3 特長
  • 4 画像取得時間の短縮
  • 5 応用例
    • 5.1 磁気ディスクの記録状態
    • 5.2 磁気多層膜の端面観察
  • 6 まとめ

第5章 ソフト磁性膜の磁気測定法

  • 1 直流磁化曲線の測定法
    • 1.1 誘導法
    • 1.2 積分方法
    • 1.3 薄膜測定の問題点
  • 2 高周波透磁率の測定法
    • 2.1 複素透磁率
    • 2.2 測定の実際
  • 3 高周波損失の測定法
    • 3.1 損失の表現法
    • 3.2 小振幅励磁の損失測定
    • 3.3 大振幅励磁の損失測定

第6章 記録用磁性薄膜の測定法

  • 1 はじめに
  • 2 薄膜構造の測定法
  • 3 垂直磁化膜の磁気測定法
    • 3.1 磁化測定
    • 3.2 垂直磁気異方性エネルギーの測定法
  • 4 光磁気記録用薄膜の磁気光学効果測定法
    • 4.1 磁気光学効果とは
    • 4.2 磁気光学カー効果 (またはファラデー効果) の測定法
  • 5 人工格子の構造評価と巨視的な磁気測定
  • 6 表面磁性の評価と表面磁気光学効果 (SMOKE)
  • 7 まとめ

第7章 薄膜のミクロ磁気測定法

  • 1 緒言
  • 2 核磁気共鳴吸収 (NMR)
    • 2.1 NMRの原理
    • 2.2 NMRのデータ解析
    • 2.3 スピンエコー法
    • 2.4 薄膜への適用例
  • 3 メスバウアー分光法
    • 3.1 原理
    • 3.2 内部転換電子メスバウアー分光法
    • 3.3 メスバウアースペクトルから得られる情報
    • 3.4 メスバウアー効果の観測できる原子核
    • 3.5 測定装置と測定法
    • 3.6 薄膜への適用
  • 4 スピン偏極光電子分光
    • 4.1 測定の原理
    • 4.2 電子のスピン偏極度の測定
    • 4.3 スピン偏極逆電子分光法
    • 4.4 スピン偏極電子線エネルギー損失分光

第8章 薄膜の基本特性の測定法

  • 1 薄膜の摩擦・摩耗特性の測定法
    • 1.1 摩擦特性
    • 1.2 薄膜の磨耗特性
  • 2 薄膜の膜厚測定法
  • 3 薄膜の機械的特性評価法
    • 3.1 薄膜の機械的特性
    • 3.2 薄膜の機械的性質の測定法
    • 3.3 装置構造および測定原理
    • 3.4 測定例
    • 3.5 高速引掻試験機の構造
    • 3.6 薄膜の疲労試験機の構造

執筆者

  • 宮島 英紀 : 慶應義塾大学 理工学部 物理学科 助教授
  • 猪俣 浩一郎 : 株式会社東芝 総合研究所 金属セラミック材料研究所 研究主幹
  • 高橋 研 : 東北大学 工学部 電子工学科 助教授
  • 奥野 光 : 千葉大学 工学部 電気電子工学科 助教授
  • 小池 和幸 : 株式会社日立製作所 基礎研究所 主任研究員
  • 松山 秀生 : 株式会社日立製作所 基礎研究所 研究員
  • 片山 利一 : 工業技術院 電子技術総合研究所 量子材料研究室 主任研究員
  • 柳沢 雅広 : 日本電気株式会社 機能エレクトロニクス研究所 記憶研究部 研究課長

監修

株式会社東芝
総合研究所
金属セラミック材料研究所
研究主幹
猪俣 浩一郎

出版社

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お問い合わせ

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(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

CD-R 206ページ

発行年月

1990年12月

販売元

tech-seminar.jp

価格

39,900円 (税別) / 43,890円 (税込)

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