特許情報分析(パテントマップ)から見た

真空蒸着技術技術開発実態分析調査報告書

～注目技術別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、「真空蒸着技術」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
真空蒸着技術技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

「真空蒸着技術」に関する公開件数、出願人(共同出願人)、発明者、特許分類、キーワードなどに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

(1). どの真空蒸着技術関連企業にどのような技術の公開があるか、
(2). 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
(3). 最近10年余における関連技術の消長はどのようになっているか、
(4). 各企業間の連携状況はどのようになっているか、
(5). 直近2年間における企業及び技術の注目すべき動向は何か、
(6). この分野に強い弁理士(特許事務所)と企業の利用状況はどうか
等を明確にして、知財の現状に付き具体的データを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は、「真空蒸着技術」に関する過去10年余り(国内公開日:2004年1月1日～2014年2月28日)に及ぶ公開特許について、検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は7,760件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3つの部分から構成されている。

1. パテントマップ編
- A. 全般分析
- B. 上位20出願人比較分析
- C. 上位5出願人個別分析
- D. 特定6社比較分析(1位アルバックG、2位キヤノンG、3位住友G、4位セイコーG、5位三菱G、6位パナソニックG)
- E. 上位20特許分類分析
- F. 特定特許分類分析
- G. キーワード分析 ※キーワード(発明の名称、要約、請求の範囲から抽出)においては、下記1グループの観点から分析を行った。・目的・効果系キーワード(容易、安価など17個)
- H. 直近2年間の動向分析(2012年3月～2014年2月)
- I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
2. パテントチャート編
3. 総括コメント

4. 本報告書の特徴

「真空蒸着技術」に関する最近10年余り、さらには直近2年間(最新月まで)の技術動向が分かりやすく把握できる
本技術分野に関係する弁理士(特許事務所)の動静が読み取れる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 全般分析
- A-1. 全体の技術開発ライフサイクル
- A-2. 公開件数の推移(年次と累計)
- A-3. 出願人数の推移(年次と累計)
- A-4. 新規発明者数の推移(年次と累計)
- A-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(年次と累計)
- A-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(年次と累計)
- A-7. 新規Fターム分類数の推移(年次と累計)
- A-8. 出願人別公開件数ランキング(上位100)
- A-9. 発明者別公開件数ランキング(上位50)
- A-10. FIメイングループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-11. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-12. Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング(上位50)
- A-13. Fターム分類別公開件数ランキング(上位100)
- A-14. 1位Fタームテーマコード4K029の技術分類別件数(観点×数字)
- A-15. 2位Fタームテーマコード3K107の技術分類別件数(観点×数字)
- A-16. 出願人別参入・撤退状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-17. FIメイングループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-18. FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-19. Fターム分類別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- A-20. 出願人別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
- A-21. 発明者別公開件数伸長率(上位50、件数差13件以上)
- A-22. FIメイングループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差3件以上)
- A-23. FIサブグループ分類別公開件数伸長率(上位50、件数差5件以上)
- A-24. Fターム分類別公開件数伸長率(上位50、件数差10件以上)
- A-25. FIメイングループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差8名以上)
- A-26. FIサブグループ分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差15名以上)
- A-27. Fターム分類別発明者数伸長率(上位50、発明者数差20名以上)
B. 上位20出願人比較分析
- B-1. 公開件数比較(2004年～2008年 VS 2009年～2013年)
- B-2. 公開件数の推移(累計)
- B-3. 共同出願人数の推移(累計)
- B-4. 新規発明者数の推移(累計)
- B-5. 新規FIメイングループ分類数の推移(累計)
- B-6. 新規FIサブグループ分類数の推移(累計)
- B-7. 新規Fターム分類数の推移(累計)
- B-8. 新規キーワード数の推移(累計)
- B-9. 上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- B-10. 上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- B-11. 上位20Fターム分類との公開件数相関
- B-12. 上位2Fタームテーマコード分類における公開件数比較
- B-13. 目的・効果系キーワードとの公開件数相関
- B-14. 目的・効果系キーワードとの発明者数相関
- B-15. 公開件数占有率
- B-16. 審査・権利状況
- B-17. 公開件数の伸びと1位Fターム分類4K029CA01に関する構成率比較
- B-18. 発明者数*FIサブグループ分類数の比較
C. 上位5出願人個別分析
- C-1-1. 【アルバックG】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-2. 【キヤノンG】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-3. 【住友G】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-4. 【セイコーG】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-1-5. 【三菱G】FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-1. 【アルバックG】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-2. 【キヤノンG】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-3. 【住友G】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-4. 【セイコーG】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-2-5. 【三菱G】Fターム分類別公開件数ランキング(上位50)
- C-3-1. 【アルバックG】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-2. 【キヤノンG】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-3. 【住友G】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-4. 【セイコーG】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-3-5. 【三菱G】FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-1. 【アルバックG】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-2. 【キヤノンG】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-3. 【住友G】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-4. 【セイコーG】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-4-5. 【三菱G】Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- C-5-1. 【アルバックG】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-2. 【キヤノンG】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-3. 【住友G】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-4. 【セイコーG】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-5-5. 【三菱G】FIサブグループ分類別出現・消失状況(最近40)
- C-6-1. 【アルバックG】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-2. 【キヤノンG】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-3. 【住友G】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-4. 【セイコーG】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-6-5. 【三菱G】キーワード別出現・消失状況(最近40、公開件数5件以上)
- C-7-1. 【アルバックG】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-2. 【キヤノンG】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-3. 【住友G】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-4. 【セイコーG】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-7-5. 【三菱G】独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
- C-8-1. 【アルバックG】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-2. 【キヤノンG】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-3. 【住友G】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-4. 【セイコーG】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-8-5. 【三菱G】独自キーワード別公開件数ランキング(上位50)
- C-9-1. 【アルバックG】共同出願人との連携
- C-9-2. 【キヤノンG】共同出願人との連携
- C-9-3. 【住友G】共同出願人との連携(上位20)
- C-9-4. 【セイコーG】共同出願人との連携(0人)
- C-9-5. 【三菱G】共同出願人との連携
D. 特定6社比較分析(1位アルバックG、2位キヤノンG、3位住友G、4位セイコーG、5位三菱G、6位パナソニックG)
- D-1. 6社の上位5FIサブグループ分類別公開件数の推移(年次)
- D-2. 6社のアルバックG上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-3. 6社のキヤノンG上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-4. 6社の住友G上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-5. 6社のセイコーG上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-6. 6社の三菱G上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-7. 6社のパナソニックG上位5FIサブグループ分類別公開件数比較
- D-8. 6社の4K029CA(物理蒸着>被覆処理方法)のFターム分類別公開件数比較
- D-9. 6社の4K029DB(物理蒸着>蒸着装置)のFターム分類別公開件数比較
- D-10. 6社のFIサブグループ分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
- D-11. 6社のFターム分類別出現・消失状況(公開件数上位10)
- D-12. アルバックGの公開件数伸び変遷
- D-13. キヤノンGの公開件数伸び変遷
- D-14. 住友Gの公開件数伸び変遷
- D-15. セイコーGの公開件数伸び変遷
- D-16. 三菱Gの公開件数伸び変遷
- D-17. パナソニックGの公開件数伸び変遷
- D-18. 6社とFターム分類(上位20)との公開件数相関
- D-19. Fターム分類別公開件数グロスランキング(上位10)
E. 上位20特許分類分析
- E-1. FIメイングループ分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年VS 2009年～2013年)
- E-2. FIサブグループ分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年VS 2009年～2013年)
- E-3. Fターム分類別公開件数比較(上位20)(2004年～2008年VS 2009年～2013年)
- E-4. FIメイングループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-5. FIサブグループ分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-6. Fターム分類別公開件数の推移(上位20、累計)
- E-7. FIメイングループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-8. FIサブグループ分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-9. Fターム分類別出願人数の推移(上位20、年次)
- E-10. FIメイングループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-11. FIサブグループ分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-12. Fターム分類別発明者数の推移(上位20、年次)
- E-13. FIメイングループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-14. FIサブグループ分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
- E-15. Fターム分類別公開件数占有率(公開件数上位20)
F. 特定特許分類分析
- F-1. 特定特許分類分析(1)
  - F-1-1. 特定FIサブグループ分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-2. 特定FIサブグループ分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-3. 特定Fターム分類の公開件数の推移(年次)
  - F-1-4. 特定Fターム分類の上位20出願人別公開件数の推移(年次)
  - F-1-5. 特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-6. 特定Fターム分類の新規出願人数の推移(年次)
  - F-1-7. 特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-8. 特定Fターム分類の新規発明者数の推移(累計)
  - F-1-9. 特定FIサブグループ分類C23C14/24の公開件数伸長率変遷
  - F-1-10. 特定FIサブグループ分類H05B33/14の公開件数伸長率変遷
  - F-1-11. 特定Fターム分類4K029CA01の公開件数伸長率変遷
  - F-1-12. 特定Fターム分類4K029AA24の公開件数伸長率変遷
  - F-1-13. 特定FIサブグループ分類C23C14/24の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-14. 特定FIサブグループ分類H05B33/14の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-15. 特定Fターム分類4K029CA01の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-1-16. 特定Fターム分類4K029AA24の出願人別公開件数ランキング(上位50)
- F-2. 特定特許分類分析(2)
  - F-2-1. 特定Fターム分類4K029BA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-2. 特定Fターム分類4K029CA関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-3. 特定Fターム分類4K029DB関連の出願人別公開件数ランキング(上位50)
  - F-2-4. 特定Fターム分類4K029BA関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-5. 特定Fターム分類4K029CA関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-6. 特定Fターム分類4K029DB関連の公開件数グロスランキング
  - F-2-7. 特定Fターム分類4K029BA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-8. 特定Fターム分類4K029CA関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-9. 特定Fターム分類4K029DB関連の公開件数の推移(年次)
  - F-2-10. 特定Fターム分類4K029BA関連と4K029CA関連との公開件数相関
  - F-2-11. 特定Fターム分類4K029BA関連と4K029DB関連との公開件数相関
  - F-2-12. 特定Fターム分類4K029CA関連と4K029DB関連との公開件数相関
  - F-2-13. 特定Fターム分類4K029BA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-14. 特定Fターム分類4K029CA関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-15. 特定Fターム分類4K029DB関連と上位20出願人との公開件数相関
  - F-2-16. 特定Fターム分類4K029BA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-17. 特定Fターム分類4K029CA関連の公開件数伸長率変遷
  - F-2-18. 特定Fターム分類4K029DB関連の公開件数伸長率変遷
G. キーワード分析
- G-1. キーワード別公開件数ランキング(上位100)
- G-2. キーワード別出現・消失状況(最近80、公開件数10件以上)
- G-3. キーワード別公開件数の伸長率(上位50、件数差20件以上)
- G-4. 目的・効果系キーワードの公開件数の推移(年次)と比率
- G-5. 目的・効果系キーワードの出願人数の推移(累計)
- G-6. 目的・効果系キーワードの新規発明者数の推移(累計)
- G-7. 目的・効果系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
H. 直近2年間の動向分析(2012年3月～2014年2月)
- H-1. 出願人別公開件数ランキング(上位20)
- H-2. 出願人別公開件数占有率(上位20)
- H-3. FIサブグループ分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-4. FIサブグループ分類1位C23C14/24と他分類との相関(上位20)
- H-5. Fターム分類別公開件数ランキング(上位20)
- H-6. Fターム分類1位4K029CA01と他分類との相関(上位20)
- H-7. 上位20出願人と上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
- H-8. 上位20出願人と上位20Fターム分類との公開件数相関
I. 弁理士(特許事務所)の動向分析
- I-1. 弁理士(特許事務所)別公開件数ランキング(上位40)
- I-2. 弁理士(特許事務所)別公開件数の推移(上位40、年次)
- I-3. 上位40弁理士(特許事務所)と上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
- I-4. 上位40弁理士(特許事務所)と上位40出願人との公開件数相関

2. パテントチャート編

(1). 日東電工の時系列チャート分析(2004年～2014年2月)
(2). 富士通の時系列チャート分析(2004年～2014年2月)
(3). 日東電工の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2004年～2014年2月)
(4). 富士通の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2004年～2014年2月)
(5). 垣内良平(日東電工)の公報3件のサイテーションマップ

3. 総括コメント

参考資料

資料1 : 出願人グループ化リスト
資料2 : キヤノンGの2010年～2014年2月における全公報181件の審査権利状況リスト
資料3 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

ページのトップヘ

出版社

株式会社パテントテック社

お支払い方法、返品の可否は、必ず注文前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア、パテントマップ・チャート添付) 252ページ

ISBNコード

978-4-86483-345-5

発行年月

2014年4月

販売元

tech-seminar.jp

価格

54,000円 (税別) / 59,400円 (税込)

同時購入割引

書籍版・CD-ROM版の同時購入で 89,400円(税込) (通常価格 118,800円税込) でご購入いただけます。

出版物を購入する

ページのトップヘ

開始日時		会場	開催方法
2025/9/24	微粒子・ナノ粒子の特性・作製・表面処理・分散の基礎		オンライン
2025/9/25	微粒子・ナノ粒子の特性・作製・表面処理・分散の基礎		オンライン
2025/9/25	押出・延伸・冷却による構造制御と可視化・解析による機能発現の最適化		オンライン
2025/9/25	バリアフィルム作製の基礎とガス透過性メカニズム・評価技術および最新技術動向		オンライン
2025/9/26	基礎から学ぶフィラー活用術および環境対応・サステナブルコンポジット技術		オンライン
2025/9/29	バリアフィルム作製の基礎とガス透過性メカニズム・評価技術および最新技術動向		オンライン
2025/9/29	ラミネート技術の基礎・トラブル対策とヒートシール技術のポイント		オンライン
2025/9/30	プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ		オンライン
2025/9/30	ラミネート技術の基礎・トラブル対策とヒートシール技術のポイント		オンライン
2025/10/7	ぬれの基礎と実用的な撥水・撥油/親水処理技術の最新研究開発動向	愛知県	会場
2025/10/8	防汚コーティング技術の総合知識		オンライン
2025/10/8	金属の表面処理技術		オンライン
2025/10/9	電子デバイス製造における真空および薄膜形成技術の基礎と応用		オンライン
2025/10/9	溶射技術の基礎とその応用	東京都	会場・オンライン
2025/10/9	再生プラスチックの溶融粘度特性とその制御、測定・評価		オンライン
2025/10/15	パウダー化粧品の処方設計のポイントと粉体物性の機器評価方法		オンライン
2025/10/16	半導体材料と半導体デバイス製造プロセス		オンライン
2025/10/17	高分子延伸による配向・結晶化制御	東京都	会場
2025/10/20	防汚コーティング技術の総合知識		オンライン
2025/10/21	半導体材料と半導体デバイス製造プロセス		オンライン

発行年月
2025/6/30	ウェブハンドリング、Roll to Rollを利用した生産技術とトラブル対策
2025/5/26	表面プラズモン技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2025/5/26	表面プラズモン技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (書籍版)
2025/4/30	非フッ素系撥水・撥油技術の開発動向と性能評価
2025/4/21	塗料技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2025/4/21	塗料技術〔2025年版〕技術開発実態分析調査報告書 (書籍版)
2024/8/30	塗工液の調製、安定化とコーティング技術
2024/4/1	反射防止フィルム技術開発実態分析調査報告書
2024/4/1	反射防止フィルム技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2023/9/29	先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/8/31	“ぬれ性“の制御と表面処理・改質技術
2023/5/31	塗布・乾燥のトラブル対策
2022/5/20	コーティング技術の基礎と実践的トラブル対応
2021/4/30	封止・バリア・シーリングに関する材料、成形製膜、応用の最新技術
2021/3/26	超撥水・超撥油・滑液性表面の技術 (第2巻) (製本版＋ ebook版)
2021/3/26	超撥水・超撥油・滑液性表面の技術 (第2巻)
2021/3/8	プラズマ技術 (CD-ROM版)
2021/3/8	プラズマ技術
2019/12/20	高分子の表面処理・改質と接着性向上
2018/9/27	プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

tech-seminar.jp

セミナー

セミナー (分野別)

出版物

お申し込み・ご購入

お問い合わせ