技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
(2025年3月6日 10:30〜12:00)
フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。2017年より極端紫外線 (EUV) 露光システムが実用化されている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の開発が必要とされ続けている。
本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。
(2025年3月6日 13:00〜14:30)
EUVレジストは従来の紫外線領域までのレジストと違い、ショットノイズや2次電子の影響などEUV特有の特徴がある。そのため、紫外線や電子線による代替測定だけでなく、実際のEUV照射による感度測定が必要である。
本講座では感度測定手法と、それによって何がわかるのかを解説する。また、EUVレジストは50nm程度以下の薄膜での使用が基本となっており、EUV照射後に回収できるサンプルが少なく、溶液分析が困難である。固体状態での分析方法として、EUV照射時のアウトガス分析や、X線による吸収分光分析手法があり、それらも解説する。
(2025年3月6日 14:45〜16:15)
レジストの歴史歴背景、メタルレジストの重要性、メタルレジストの作製方法およびメタルレジストのEUVによる反応機構、メタルレジストの大気安定性を紹介する。メタルレジストの反応機構を明らかにする分析手法に関しても紹介する
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