技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーは、 ALD , CVD の基礎から解説し、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。
Atomic Layer Deposition (ALD、原子層堆積法) による薄膜合成は、ナノメートルレベルでの膜厚制御性、膜厚均一性などから、ULSIゲート酸化膜形成、メモリキャパシタ形成などに応用展開されている技術です。しかし、そのプロセスは、原料の供給、パージ、反応性ガスの供給、パージなどからなり、各段階での条件設定は、これまでの類似手法であるChemical Vapor Deposition (CVD、気相薄膜形成法) と比較して、かなり複雑であり、速度論の基礎的知識なしには容易に最適化を達成できません。
このため、本講座では、まずALDの基礎知識として、CVDの速度論から説明を行い、CVD/ALDプロセスの開発・解析能力を養うことを目標とします。また、ALDプロセスの理想と実際について、原理およびメカニズムから詳しく解説を行い、新たにALDプロセス開発・製品応用に関わる方の一助となるよう配慮した講義を行います。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
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開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/9/9 | 自己組織化単分子膜 (SAM) の基礎と評価・分析手法およびその応用技術 | オンライン |
発行年月 | |
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2015/10/1 | すぐ分かるラミネート加工技術と実際およびトラブル・シューティング |
2015/9/1 | マンガと写真でわかる初歩のシート成形 |
2015/7/30 | ダイ塗布の流動理論と塗布欠陥メカニズムへの応用および対策 |
2014/8/25 | ぬれ性のメカニズムと測定・制御技術 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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2012/9/20 | フッ素樹脂 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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2012/6/1 | 超撥水・超親水化のメカニズムとコントロール |
2012/1/30 | 水処理膜の製膜技術と材料評価 |
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