技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、講師の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構について解説いたします。
また、最新研究成果として3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。
原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティングにも活用が検討されています。原子層堆積での高品質膜の達成のため、表面反応を中心とした反応機構の理解と、モニタリング、そして適切な材料選択、プロセス調整の知識が欠かせません。
山形大学ではこれまで原子層堆積法のその場観察と低温化研究を進めてまいりましたが、我々の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構理解の達成を目標とします。さらに最新研究成果として3D-CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。
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開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/4/10 | めっきの基礎と応用およびトラブル対策 | オンライン | |
2025/4/11 | 熱処理の基礎および熱が製品の特性と品質に与える影響 | 東京都 | 会場・オンライン |
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2025/4/15 | 半導体デバイス製造工程の基礎 | オンライン | |
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2025/5/8 | 塗布膜乾燥のメカニズムとその制御、トラブル対策 | オンライン | |
2025/5/9 | 常温型フッ素コーティングによる防湿・絶縁・耐酸・撥水・撥油・離型技術とPFAS規制 | オンライン | |
2025/5/13 | 微粒子・ナノ粒子の作製・表面修飾・分散と応用 | オンライン | |
2025/5/14 | Roll To Rollにおけるフィルム乾燥の基礎と実践、設備設計と面状トラブル対策 | オンライン |
発行年月 | |
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2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
2013/12/15 | パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2013/12/15 | パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 |
2013/6/26 | UV・EB硬化型コート材の基礎、各種機能向上技術 |
2013/2/10 | 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2013/2/10 | 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 |
2012/10/31 | ハイブリッド・デュアルUV硬化の実践的活用 |
2012/9/20 | フッ素樹脂 技術開発実態分析調査報告書 |
2012/9/20 | フッ素樹脂 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2012/6/15 | 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 |
2012/6/15 | 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2012/6/1 | 超撥水・超親水化のメカニズムとコントロール |
2012/4/15 | Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書 |
2011/11/15 | 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
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2010/2/25 | コーティング材料のコントロールと添加剤の活用 |
2009/4/22 | MEMSデバイス総論 【新装版】 |
2008/9/1 | 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 |
2008/9/1 | 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版) |
2008/3/19 | 多孔体の精密制御と機能・物性評価 新装版 |