技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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cGMPに「医薬品の製造装置は、製品の安全性、本質、力価、品質または純度を劣化させるような汚染を防止するため、適切に洗浄されたければならない。」とある。これは「医薬品製造設備の洗浄バリデーション」を実施する上での最も基本的考え方である。またICH Q7 12章にも、「共用設備の品目切り替え時には完全に洗浄すること、専用設備であっても望ましくない物質や微生物汚染を防ぐため、適切なインターバルで洗浄するべきこと。」と医薬品の設備洗浄が示されている。
近年急速な広がりをみせるPIC/S GMPの枠組みの中で、洗浄工程や交叉汚染については、リスクベースの視点で捉えることが重要である。そのために、洗浄手順はもとより、残留物等の限度値は、製品の安全性から論理的且つ科学的な根拠に基づき設定しなければならない。また洗浄バリデーションに用いる試験方法も、残留物を確実に検出することのできるような、特異性及び感度を有する妥当なものでなければならない。
本講演では、医薬品製造における最新の日米欧3極の洗浄バリデーションについての規制動向を踏まえながら、よく出る査察指摘事項、PIC/S Annex15 の特異点などを交えて解説する。
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