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超臨界流体の基礎とマイクロ材料加工・表面処理プロセスへの応用技術

超臨界流体の基礎とマイクロ材料加工・表面処理プロセスへの応用技術

東京都 開催 会場 開催
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開催日

  • 2013年6月20日(木) 13時00分 ～ 16時30分

受講対象者

  • 超臨界流体の利用に興味のある材料・電気電子・化学エンジニア

プログラム

　超臨界流体とは、物質が高圧で気体とも液体ともつかなくなった状態のことで、表面張力がゼロで、高い拡散性と密度を併せ持ち、溶媒として振る舞う不思議な性質を持っています。
　超臨界流体、特に超臨界二酸化炭素はコーヒーからのカフェイン抽出などにすでに実用化されており工業的に有用な技術です。半導体やMEMSなどのマイクロプロセスや表面処理プロセスでは、従来の真空プロセスやめっきプロセスにはみられない微細加工性を実現できることから利用が着目されています。
　また、大量の廃液を排出しない低環境負荷型プロセスとしても大いに期待されています。
　超臨界流体に関するこれまでのセミナーでは化学分野における研究興味を出発としたシーズ転展開形の内容が多かったように思います。これに対し本講では、マイクロ材料加工・表面処理プロセスになぜ超臨界流体が適しているかの観点から超臨界流体の性質を解説し、応用例を示すというニーズ志向の切り口で企画しました。

  1. 超臨界流体の基礎とマイクロプロセス
    1. 物質の三態と超臨界流体
    2. 超臨界CO2流体の性質と様々の超臨界流体
    3. 流体物性の観点からのマイクロプロセスにおける超臨界CO2のメリット
      • 乾燥
      • 洗浄
      • 薄膜堆積
  2. 超臨界流体を用いた薄膜堆積
    1. めっき前処理
    2. 電解めっき
    3. 無電解めっき
    4. 電気めっき
    5. 化学的薄膜堆積
  3. 多孔質薄膜と細孔エンジニアリング
    1. 低誘電率薄膜と多孔質化
    2. 多孔質薄膜の作製
    3. 細孔形成・改質・洗浄と超臨界流体利用メリット
  4. 超臨界流体を用いた乾燥・エッチング・洗浄技術
    1. 超臨界流体を用いた半導体洗浄への適用
    2. 超臨界乾燥の原理と応用
    3. エッチング

  • 質疑応答・名刺交換
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講師

  • 近藤 英一 氏
    山梨大学 工学部 先端材料理工学科
    教授
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会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

4F 第2特別講習室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図
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主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)
複数名
: 31,000円 (税別) / 32,550円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
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