技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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微細化のトレンドと共に、半導体加工技術はg線からi線、エキシマ光源と進んできた。しかしながら、微細化は留まることなく、光源波長の1/4以下の微細なパタン形成を実現してきた。
さらに、20nm以下の領域に達しており、さらに10nm台も検討されている。
これらの微細化のトレンドをさらに延伸させるための技術として、極端紫外線リソグラフィー (EUVL) 技術が開発されている。この技術は、透過型マスクと従来の屈折レンズによる縮小露光と異なり、反射型マスクと多層膜をミラー面に形成した反射鏡が用いられる。
さらにレジストも今までにない解像性、線幅精度が要求される。また、マスク検査も露光に用いる光源にての評価が必要となる。
これらの技術開発に対し、この30年近くの間に数多くの革新的なブレークスルーがあった。本講座ではこれらの技術の紹介を行なう中で、本技術への理解を深める。
できるだけ平易に説明できるよう努め、随時質問に応じる講演としたい。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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