技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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(2025年7月15日 10:30〜12:00)
半導体デバイスは製膜やエッチングなどのドライプロセスを何度も経て製造される。これらのプロセスで用いられる材料ガスは、高反応性や高純度といった特徴があり、安全・安心して利用できるよう取扱い技術が確立されてきた。近年では、デバイス高集積化により、材料ガスの需要が増えると同時に様々な技術要求が生じている。また、脱炭素化や国際情勢なども半導体材料の市場や技術に影響を与えている。
講演では、材料ガスの技術課題と業界の取組みについて将来展望と併せて紹介する。
(2025年7月15日 13:00〜14:30)
半導体業界の最前線では、歩留まり向上や微細化の進展に伴い、プロセスガスの精密な制御がこれまで以上に重要視されています。その鍵を握るのが、半導体製造プロセスで不可欠な「流量制御機器」です。
本講座では、流量制御の最新動向や課題を紐解き、最先端の技術について深く理解を深めることで、次世代の半導体製造装置やプロセス開発へとつなげることを目指します。半導体技術の進化を支える知見となります。
(2025年7月15日 14:45〜16:15)
半導体デバイスの製造工程では様々な種類の超高純度材料ガスが大量に用いられており、これらのガス中に不純物として含まれる水分が製品の性能や歩留まりに悪影響を与えることが知られている。ガス中水分の許容量はモル分率で数ppbとされており、このレベルの水分をリアルタイムに精度良く測定できる微量水分の計測技術が求められている。「水」は目には見えない水蒸気の状態で大気中に大量に存在し、容易に製造ラインや計測環境に浸入して物質表面で高い吸着性を示すことから、除去や計測が難しい非常に厄介な不純物である。
本講座では、微量水分の扱いの難しさや注意点について事例を交えて説明する。また、CRDS (キャビティリングダウン分光法) を始めとする微量水分の計測技術、計測器の性能評価を行うための基準となる「標準」について述べる。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
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発行年月 | |
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