技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

微細Cu配線・Low‐k/Air-Gap材料・Post-Cu材料に見る先端多層配線技術

微細Cu配線・Low‐k/Air-Gap材料・Post-Cu材料に見る先端多層配線技術

~Cu代替材料・ナノカーボン・Low-k材料の低誘電率化、プロセスダメージなどの課題まで~
オンライン 開催

関連するセミナーとの同時申し込みは、こちらより承っております。

概要

本セミナーでは、先端半導体デバイスにおける多層配線の材料・構造・プロセスの変遷、CuダマシンプロセスとPost-Cu配線材料候補及びプロセス、低誘電率 (Low-k) 絶縁膜などの最新技術を解説いたします。
また、新たな技術トレンドである「裏面電源供給」のための配線形成・貼合プロセスやDRAMやNANDの3Dメモリチップ積層とウエハレベル貼合、異種デバイス集積化 (チップレットインテグレーション) 、FOWLP/PLP、ガラスサブストレート、高周波基板材料など、幅広い技術を基礎・開発動向の両面から議論いたします。

開催日

  • 2026年9月2日(水) 13時00分17時30分

修得知識

  • 多層配線技術の変遷・開発経緯
  • Cuダマシン配線プロセス技術
  • Cu代替金属材料/ナノカーボン材料
  • 低誘電率 (Low-k/Air-Gap) 絶縁膜
  • 裏面電源供給技術;BS-PDN/PowerVia/SPR
  • 微細配線の高信頼性化

プログラム

  1. 多層配線技術の役割とスケーリング,材料・構造・プロセスの変遷
    1. 多層配線の役割と要求,階層構造,フロアプランの実例
    2. 配線長分布と配線階層 (Local, Intermediate, (Semi-) Global) 毎のRC寄与度の違い
    3. 下層 (Local) ・中層 (Intermediate) 及び上層 ( (Semi-) Global) 配線のスケーリング理論
    4. 多層配線技術の進化の足跡
    5. 配線・コンタクト・Viaホールの材料・構造・プロセスの変遷
  2. 微細Cuダマシン配線技術の基礎〜最新動向
    1. 配線プロセスの変遷 (Al-RIE⇒Cuダマシン)
    2. 金属材料の物性比較とCu選定の考え方
    3. Cu酸化拡散防止膜 (バリアメタル) の要件と材料候補 (Ta (N) ,Ti (N) ,Nb (N) ,W (N) )
    4. Ta (N) の課題 (対Cu濡れ性,対酸化性) とTi (N) の優位性
    5. バリアメタル及びSeed-Cuスパッタ法の変遷と課題
    6. CVD-Ru,Co, RuCoライナーによるCu埋め込み性の改善
    7. Mnを利用した超薄膜バリア (MnSixOy) 自己形成技術
    8. Cu電解めっきプロセスの概要と無電解法, Cuリフロー法, MOCVD法との比較, Additiveの重要性,役割,選定手法
    9. CMPプロセスの概要と研磨スラリーの種類,適用工程の拡大
    10. Cu-CMにおける低機械強度Low-k対応施策
      • 低荷重
      • 複合粒子スラリー
      • Pad表面改質
  3. Post-Cu配線技術の基礎〜最新動向
    1. Cuダマシン配線における微細化・薄膜化による抵抗増大
    2. 平均自由行程からみたCu代替金属材料候補の考え方
    3. W,Co,Ru,Mo,Ni, Al2Cu, NiAl, CuMgなどの最新開発動向から見た有力候補
    4. 金属配線の微細化限界についての考察とナノカーボン材料への期待
    5. 多層CNT (MWCNT) によるViaホールへの埋め込みと課題
    6. 多層グラフェン (MLG) による微細配線形成と低抵抗化検討結果
  4. 低誘電率 (Low-k/Air-Gap) 絶縁膜形成技術の基礎〜最新動向
    1. Cu配線に用いられている絶縁膜の種類と役割
    2. 各種配線パラメータの容量に対する感度解析結果
    3. ITRS (国際半導体技術ロードマップ委員会) Low-kロードマップの課題と大改訂
    4. 比誘電率 (k) 低減化の手法と材料候補 (SiOF, MSQ/SiOC, PAr, BCBなど)
    5. 層間絶縁膜 (ILD) 構造の比較検討 (Monolithic vs. Hybrid)
    6. 材料物性から見たLow-k材料の課題
      • 低機械強度
      • 低プラズマダメージ耐性など
    7. Porous材料におけるPore分布の改善とEB/UV-Cure技術の適用効果
    8. Porous材料におけるダメージ修復技術の効果
    9. Pore後作りプロセスの提案とLow-k材料の適用限界の考察
    10. Air-Gap技術の導入の考え方と構造・方式の比較、課題、現実的な解
    • 質疑応答

講師

  • 柴田 英毅
    名古屋大学 未来社会創造機構
    客員教授

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 34,400円 (税別) / 37,840円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 34,400円(税別) / 37,840円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

2日間コースのお申込み

セット対象セミナー

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/9/15 半導体デバイス製造に用いられる接合技術 オンライン
2026/9/16 人工ダイヤモンドの最新技術と産業応用最前線 オンライン
2026/9/16 クライオエッチングの基礎・現状・課題と最新技術動向 オンライン
2026/9/16 FPC (フレキシブルプリント配線板) の総合知識 オンライン
2026/9/17 半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2026年秋版) オンライン
2026/9/17 電子回路の公差設計入門 オンライン
2026/9/17 設計者CAE 構造解析編 (強度) オンライン
2026/9/18 2nm以降半導体向け配線技術の最新動向と材料、プロセスへの要求特性 オンライン
2026/9/18 200mm装置から300mm装置の大型化・高精度化に対応するCMP技術開発の動向 オンライン
2026/9/24 半導体パッケージの基礎知識、最新技術動向と課題 オンライン
2026/9/24 電子部品・材料の故障解析技術 オンライン
2026/9/25 半導体量子ビットの基礎と研究動向および技術課題と展望 オンライン
2026/9/28 半導体製造装置用セラミックス部材の開発動向とプラズマ耐性向上 オンライン
2026/9/29 半導体市場の動向と半導体産業の今後の見通し オンライン
2026/9/30 フォトレジストの材料設計と先端半導体プロセス技術 オンライン
2026/9/30 DFT技術の最新動向と2.5D/3D-IC対応の実践ポイント オンライン
2026/9/30 レジストリソグラフィー技術の基礎と実務およびトラブル対策 オンライン
2026/9/30 半導体ウェット洗浄の基礎・実践と最新洗浄技術 オンライン
2026/10/1 DFT技術の最新動向と2.5D/3D-IC対応の実践ポイント オンライン
2026/10/2 ALD (原子層堆積法) の基礎とプロセス最適化および最新技術動向 東京都 会場

関連する出版物

発行年月
2024/12/27 次世代高速・高周波伝送部材の開発動向
2024/11/13 世界のチップレット・先端パッケージ 最新業界レポート
2024/9/13 世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート
2024/8/30 次世代パワーデバイスに向けた高耐熱・高放熱材料の開発と熱対策
2024/6/19 半導体・磁性体・電池の固/固界面制御と接合・積層技術
2024/4/30 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/6/29 高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向
2022/6/17 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕
2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2021/2/26 高速・高周波対応部材の最新開発動向
2020/7/17 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望