技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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(2025年11月27日 9:45〜11:45)
微細化によるムーアの法則が限界を迎える中で、3Dパッケージ、チップレットなどの技術が注目され、先端パッケージのサブストレート、インターポーザー、パネルパッケージについては、更なる高機能化、多機能化、低コスト化を追求するために重要性が増している。
ここでは、先端パッケージにおけるガラスコアサブストレート、ガラスインターポーザー、パネルパッケージの基礎、応用、課題、および最新動向も含めて分かり易く解説する。
(2025年11月27日 12:30〜13:30)
AIなどの急速な発展に伴い、半導体に求められる要求が高くなり、半導体チップのサイズがおおきくなることと、高速に信号伝達を行うために別機能のチップを近接して配置する必要があり、複数の半導体チップをインターポーザ上で接続する必要があり、このためインターポーザのサイズが大きくなっている。
従来使われていたシリコンベースのインターポーザでは効率的に個数を得ることができず、ガラスなどの角型基板上に有機材料によるインターポーザを形成、あるいはガラスパネルをコア材としたガラスインターポーザが次世代のインターポーザとして期待され、これらに使われる材料の必要特性、開発動向、今後の動向について解説する。
(2025年11月27日 13:40〜14:40)
本講演では、WLP/PLP向けの半導体封止材に共通する課題やWLPからPLPへの大判化に伴う課題とその開発状況、および、当社で開発中の後工程材料に関して報告する。
(2025年11月27日 14:50〜15:50)
本講義では、微細化の限界に直面する半導体製造において、封止や実装といった後工程の重要性が一層高まっている現状を踏まえ、最新のパッケージ技術について解説します。
ウェハレベルからパネルレベルへの大判化、多チップレット構造、さらには3D実装といった動向を紹介するとともに、トランスファモールド方式やコンプレッションモールド方式、真空成型技術、フレキシブルディスペンス技術による品質向上策を取り上げます。加えて、これらの技術が先端半導体の実現にどのように応用されているかについても紹介します。
(2025年11月27日 16:00〜17:00)
近年のAI技術の発展等の社会的要請を背景に、半導体製品に対する性能向上の要求がますます高まっている。これら要求に対応する為、半導体パッケージの高度化による性能向上の取り組みが種々進展している。
本講座では、先端半導体パッケージの構造に関する技術動向とそれに伴う材料技術のトレンドについて解説する。また、これら材料ニーズに対応するソリューションの一つとして、「角型シリコン基板」の諸特性と、半導体パッケージへの適用案について解説する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/11/25 | 高性能有機半導体の分子設計・合成・評価とデバイス作製・応用展開 | オンライン | |
2025/11/25 | DX/AI時代のエレクトロニクス・半導体実装技術 最新パッケージ技術とチップレット集積の課題と展望 | オンライン | |
2025/11/25 | 半導体の製造プロセスと半導体用材料の基礎入門 | オンライン | |
2025/11/25 | 半導体・電子部品実装現場での静電気 (ESD) 対策 | オンライン | |
2025/11/26 | 半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド | オンライン | |
2025/12/3 | プラズマエッチングにおけるプロセス不良発生の検出とプラズマ耐性材料の評価技術 | オンライン | |
2025/12/5 | 半導体製造におけるドライ/ウェットエッチング技術の基礎・応用と最新動向 | 東京都 | 会場 |
2025/12/8 | 半導体パッケージの接合部における各種試験評価、分析解析技術とその応用 | オンライン | |
2025/12/10 | SiC半導体ウェハの欠陥制御と検出、評価技術 | オンライン | |
2025/12/11 | SiCパワー半導体の最新動向とSiC単結晶ウェハ製造の技術動向 | オンライン | |
2025/12/12 | プラズマエッチングにおけるプロセス不良発生の検出とプラズマ耐性材料の評価技術 | オンライン | |
2026/1/29 | GaNウェハ・パワーデバイスの基礎と今後の展望 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/12/27 | 次世代高速・高周波伝送部材の開発動向 |
2024/11/13 | 世界のチップレット・先端パッケージ 最新業界レポート |
2024/9/13 | 世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート |
2024/6/19 | 半導体・磁性体・電池の固/固界面制御と接合・積層技術 |
2024/4/30 | 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術 |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2023/9/29 | 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 |
2023/4/28 | 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発 |
2022/11/29 | 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術 |
2022/10/31 | 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術 |
2022/6/17 | 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望 |
2022/6/13 | パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版) |
2022/6/13 | パワー半導体〔2022年版〕 |
2021/11/12 | レジスト材料の基礎とプロセス最適化 |
2021/6/18 | 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
2020/7/17 | 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
2019/7/19 | 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
2018/3/20 | レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決 |
2018/1/10 | SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント |