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半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法

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視聴期間は2024年6月13日〜26日を予定しております。
お申し込みは2024年6月13日まで承ります。

概要

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。

開催日

  • 2024年6月13日(木) 10時30分 ～ 2024年6月26日(水) 16時30分

修得知識

  • 先端材料の洗浄方法を構成する要素
  • 目的に合わせた「清浄」の定義
  • キレイにするための表面の取扱い
  • 流れの見抜き方・使い方・作り方
  • 洗浄条件設計の盲点
  • 生産プロセスに共通して潜在する工学現象 (流れ・気泡などの動きと設計)

プログラム

　半導体洗浄が直感的に分かることを目指して、基礎現象・要点から困った時の対策まで説明します。半導体にとって「清浄・きれい」とは何か?を改めて考え、水の流れを動画で眺めると、洗浄では何をしていて、何をどうしたら良いのかが感じ取れます。
　ここでは、身近な流れの動画を見て感覚をつかみ、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れを可視化観察動画と計算例で理解します。超音波の効果についても流れと気泡の動画を見るとイメージが湧きます。今後、極めて微細なパターンを洗浄する際に見落としがちなことも考えてみます。
　終わりには、足元をすくわれた時の視点と対策を紹介して締め括ります。工学の初歩から応用のつながりまで説明しますので、半導体以外の洗浄や洗浄以外のプロセス技術者にも参考になります。

  1. 洗う理由:汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 洗浄の4要素:温度、時間、化学、力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと (何故、そこまでして洗うのか)
  4. 先端技術情報 (半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)
  5. 半導体洗浄の基礎現象 (薬液と流れの効果)
    1. 表面の現象とプロセス (付着・脱離・引き剥がす・乾かす)
      1. 表面現象とプロセス (付着状態と除去法)
      2. 薬液
        • RCA
        • SPM
        • HF
        • BHF
        • HF+H2O2
        • HF+HCl
        • O3
        • HCl+O3
        • 機能水
      3. 新提案の洗浄方法紹介
      4. 薬液設計の考え方
        • FEOL
        • BEOL
        • CMP後
      5. 物理的手段
        • 超音波
        • 二流体ジェット
        • ロールブラシ
        • ペンシルブラシ
      6. 酸性・アルカリ洗浄液の特徴
      7. 残留物質と膜の間に生じる反応
      8. 洗浄後の表面保護
        • 酸化膜
        • 水素終端
      9. 渇き残り (ウォーターマーク)
      10. 乾燥方法
        • IPA蒸気
        • マランゴニ
        • ロタゴニ
        • 新提案の方法
      11. パターン倒れを減らす方法
      12. 洗浄工程・装置の例
        • RCA
        • UCT
        • IMEC
      13. ドライ洗浄
      14. 超臨界流体洗浄
    2. 流れ、熱、拡散、反応 (洗う=汚れを動かす操作)
    3. 装置内流れの種類
      • 完全混合
      • 押出流れ
      • 境界層
    4. 流れの可視化観察 (「流れ」と「拡散」の感覚を動画で)
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ
        • 観察動画と計算例
        • 回転数
        • ノズルスイング
      2. 化学反応の例 (酸化膜エッチング速度の数値解析事例)
    2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 水流を最適化
        • 入口と出口の工夫例
        • 90度に噴出させる簡便法
        • 粒子排出速度向上
      3. ウエハ挿入と取出しにおける汚れの動き
    3. 超音波の働き、水と気泡の動き (観察動画)
      1. 超音波出力と水の動き
      2. ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
  7. 洗浄の評価方法
    1. 実験・計算を用いたPDCAサイクル
    2. 試料の例と表面観察方法
  8. 狭い空間の洗浄
    1. 液の侵入と濡れ、親水性・疎水性の選択
    2. 狭い空間における反応の速度
    3. 微細パターンの総表面積 (実際に洗っている面積≫ウエハ面積)
  9. まとめ:困った時の視点と対策 (境界層を壊そう)
  10. 困らないために (地球環境の視点)
    • 質疑応答
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講師

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主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 36,200円 (税別) / 39,820円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 36,200円(税別) / 39,820円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

アーカイブ配信セミナー

  • 「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
  • お申し込み前に、 視聴環境 をご確認いただき、 視聴テスト にて動作確認をお願いいたします。
  • 別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
  • 視聴期間は2024年6月13日〜26日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
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