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EUVリソグラフィ技術、メタルレジスト材料の開発と課題

EUVリソグラフィ技術、メタルレジスト材料の開発と課題

～半導体微細化を達成するには? メタルレジストの特徴、課題と動向を解説～
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概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

開催日

  • 2024年1月24日(水) 10時30分 ～ 16時15分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

修得知識

  • フォトレジスト開発従事者による材料面からみたリソグラフィの歴史
  • 先端EUVレジストの課題とその解決検討状況
  • 国家プロジェクトの必要性と活用法

プログラム

第1部 リソグラフィの微細化とEUVリソグラフィ用フォトレジストの開発

(2024年1月24日 10:30〜12:00)

　昨今、私たちは新たなデジタル社会と対面している。世の中で頻繁にその言葉を耳にするIOT、AI、Soceity5.0等の発展に対し、さらなるデバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められている。そのために不可欠なのがリソグラフィの微細化であり、その実現には、フォトレジスト材料の開発が必須である。究極の微細化であるEUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発に関し、その歴史、背景を交え解説する。

  1. 世の中を取り巻く環境の変化
    1. アナログからデジタルへ、電子デバイスの高速化、大容量化、省電力、AI活用の例
    2. 昨今話題の日本の半導体産業への取り組み
  2. リソグラフィ微細化の歴史
    1. リソグラフィとは。なぜフォトレジストが必要か。
    2. 微細化を牽引するムーアの法則と露光波長短波化によるリソグラフィ微細化の歴史
    3. EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィの延命の切り札、富士フイルムによるNegative-tone imaging (NTI) 技術の発明
  3. EUVリソグラフィ
    1. EUVリソグラフィの歴史、実用化に必要な3つの課題とその重要性の推移
    2. 最初にたちはだかった大きな課題、アウトガス問題
    3. 国家プロジェクトにて対応したアウトガス問題解決 (EIDEC成果)
    4. 国家プロジェクトにて対応した露光機課題や新規材料開発 (メタルレジスト) の紹介
    5. EUVレジスト特有の課題、ストカスティック因子に関して
    6. リソグラフィ工程におけるストカスティック因子解析
    7. フォトンストカスティックとケミカルストカスティックの解説と解決手段例
    • 質疑応答

第2部 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

(2024年1月24日 13:00〜14:30)

  1. EUVLの概要
    1. EUVLの概要
    2. EUVL用レジスト
  2. アウトガス評価技術
    1. EUVLレジストのアウトガス評価方法
    2. EUVLレジストのアウトガス評価装置
  3. EUVレジストの評価技術
    1. EUV透過率測定
    2. ナノパーティクル添加レジストの高感度化
    3. 屈折率nk測定
    4. EUV2光束干渉露光
  4. EUVメタルレジストの評価技術
    1. メタルレジストの概要
    2. EUVメタルレジストのアウトガス分析
    3. EUVメタルレジストの問題点
  5. EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
    • 質疑応答

第3部 放射線化学に基づいたメタルレジストの反応機構と課題

(2024年1月24日 14:45〜16:15)

　EUVリソグラフィにおいて、次世代サブ10 nmHP用 (オングストロームノード用) として期待されるメタル含有レジストの反応機構と課題について解説します。

  1. レジストとは
  2. 次世代レジストの課題
  3. レジストの像形成機構
  4. なぜ、メタルが必要か
  5. 光吸収と光電子放出
  6. 二次電子と減速過程と熱化
  7. 熱化電子の還元作用
  8. 放射線化学反応
  9. 溶解度変化のメカニズム
  10. 課題
  11. まとめ
    • 質疑応答
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講師

  • 藤森 亨 氏
    富士フイルム株式会社 エレクトロニクスマテリアルズ研究所
    シニアエキスパート
  • 関口 淳 氏
    リソテックジャパン 株式会社
    取締役執行役員 / ナノサイエンス・グループ長
  • 古澤 孝弘 氏
    大阪大学 産業科学研究所
    教授
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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