技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、高分子・低分子化合物のレジスト材料に関する基礎や評価方法を解説いたします。
フォトレジスト材料は、化学増幅型システムを基盤として、露光システムの変遷と共に進化をしてきた。その進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説する。さらに、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説する。
また、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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2012/3/9 | フォトレジスト材料の評価 |
2012/2/28 | UV硬化プロセスの最適化 (新装版) |
2012/2/25 | フォトレジスト 技術開発実態分析調査報告書 |
2011/11/25 | アクリル酸エステル 技術開発実態分析調査報告書 |
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2010/3/1 | シリコーン製品市場の徹底分析 |
2010/2/25 | UV硬化プロセスの最適化2 |
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2009/1/16 | 世界のエンジニアリング樹脂 |