薄膜技術は、半導体集積回路やフラットパネルディスプレイなどの電子デバイス製造はもちろんのこと、光学、太陽電池、建材、食品産業、医療と、さまざまな産業分野を支える基幹技術です。現在では多機能で高性能な薄膜形成装置が市販されており、かつてと比べて容易に薄膜形成が行えるようになりました。ややもすると、薄膜形成装置は単なるブラックボックスで、そのしくみや薄膜形成の原理をよく理解せず、決められた手順だけ守って日々の仕事をこなす状況になりがちです。
　しかしながら、新規の条件で薄膜形成を行う場合、所望の薄膜を得るためには各種条件が膜質におよぼす影響を考慮しつつ、条件を選択する必要があります。また、薄膜形成プロセスで遭遇する種々のトラブルに際しては、その原因を診断し、適切に対処すること求められます。そのようなときに必要になるのが、薄膜技術に関する基本的かつ系統的な知識です。
　本講座では、薄膜技術に携わる方々を対象に、これらの技術に関する基礎的かつ系統的な知識を習得し、実際の業務に生かして頂くことを目標とします。

1. 成膜技術ための基礎知識
   1. 真空工学
   2. 表面物性工学
   3. プラズマ工学
2. 物理気相成長 (PVD) 法
   1. 真空蒸着法
      1. 原理
      2. 真空蒸着法の種類
      3. 真空蒸着法の留意事項
   2. スパッタ法
      1. 原理
      2. スパッタ法の種類
      3. スパッタ法で作製される薄膜の特長
      4. スパッタ法の留意事項
3. 化学気相成長 (CVD) 法
   1. 原理
   2. 化学気相成長法の種類
   3. 化学気相成長法による薄膜形成例
   4. 化学気相成長法の留意事項
4. 薄膜評価法
   1. 形態観察
   2. 膜組成、膜構造分析
   3. 付着力、膜応力測定
   4. 電気的特性、光学的特性測定
5. 成膜プロセスで遭遇する さまざまなトラブル
   1. 膜質に関するトラブル
   2. 装置に関するトラブル
6. まとめ
7. 質疑応答