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本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。

本セミナーでは、紫外線硬化材料の基礎から解説し、酸素による硬化阻害や硬化収縮による密着不良などのトラブルと対策を詳解いたします。

本セミナーでは、UV (紫外線) 硬化とEB (電子線) 硬化の反応メカニズムや関連法規制、市場動向、応用技術動向について解説いたします。

本セミナーでは、フォトレジスト材料の進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説いたします。
また、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説いたします。
さらに、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説いたします。

本セミナーでは、レオロジーの基礎から解説し、レオロジーデータを反応硬化の評価と制御に応用する技術について詳解いたします。

本セミナーでは、UV (紫外線) 硬化とEB (電子線) 硬化の反応メカニズムや関連法規制、市場動向、応用技術動向等などについて、それぞれの違いを明らかにしつつ解説いたします。

本セミナーでは、UV硬化材料の基礎から解説し、課題と対策を中心に詳解いたします。

本セミナーでは、紫外線硬化について基礎から解説し、光源の選択指針、密着不良・硬化収縮・硬化阻害・黄変などのトラブル対策と、新しい技術の動向までを網羅的に解説いたします。

本セミナーでは、UV硬化樹脂の材料配合、照射条件の最適化、硬化後の反り・変形・変色の防止、光が届きにくい所への遅延硬化、ハイブリット硬化の適用について詳解いたします。

本セミナーでは、紫外線硬化について基礎から解説し、光源の選択指針、密着不良・硬化収縮・硬化阻害・黄変などのトラブル対策と、新しい技術の動向までを網羅的に解説いたします。