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半導体ウェット洗浄・乾燥技術と最先端技術

半導体ウェット洗浄・乾燥技術と最先端技術

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概要

本セミナーでは、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

開催日

  • 2025年11月21日(金) 13時00分16時30分

修得知識

  • 半導体製造におけるウェット洗浄の役割
  • 半導体ウェット洗浄に使用される装置、薬液種類、洗浄原理
  • 先端半導体に要求される洗浄技術の課題、最新の洗浄技術

プログラム

 半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。
 まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。
 本セミナーでは、「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

  1. 半導体ウェット洗浄の必要性
    1. 半導体製造フローと洗浄の位置づけ
    2. 洗浄装置の役割
    3. 洗浄の除去対象
  2. 半導体ウェット洗浄の方法/原理
    1. 洗浄装置の種類
    2. 異物の除去
    3. 異物の付着抑制
  3. 洗浄の技術トレンド
    1. 洗浄と半導体の歴史
    2. 従来の洗浄技術
  4. 乾燥の技術トレンド
    1. 乾燥と半導体の歴史
    2. 従来の乾燥技術
  5. 次世代半導体の洗浄課題
    1. 半導体デバイスのトレンド
    2. 洗浄の技術的課題
    3. 洗浄装置に求められる機能
  6. 先端洗浄・乾燥技術
    1. 最新の洗浄技術
    2. 最新の乾燥技術
    3. シミュレーション技術
  7. まとめ
    • 質疑応答

講師

  • 塚原 隆太
    株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄要素開発統轄部 洗浄技術開発部 洗浄技術開発一課

主催

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受講料

1名様
: 34,400円 (税別) / 37,840円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込)

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  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
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  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

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  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
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  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
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