技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
(2025年10月10日 10:30〜12:00)
フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。2017年より極端紫外線 (EUV) 露光システムが実用化されている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の開発が必要とされ続けている。
本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。
(2025年10月10日 13:00〜14:30)
EUVリソグラフィーが実用化されてデバイス製造へも適用が進んでいますが、さらなる高解像性の要求からハイパーNA (NA0.55) のEUVスキャナーの導入が検討されています。
ハイパーNAでは、DOFの観点、および解像性から、従来のCARレジストに代わってメタルレジストが使われると言われています。
本講座では、EUVレジストの概要および特にEUVメタルレジストの評価方法について紹介します。
(2025年10月10日 14:45〜16:15)
コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、極端紫外光 (EUV) リソグラフィが実現された。
本講演では、EUV用レジスト材料の反応機構およびEUVレジスト材料の反応構に基づいた高性能化にについて解説します。特に、メタルレジスト材料の性能評価およびレジスト性能への金属コアおよび有機配位子の効果に関する研究について最近の研究成果を挙げながら紹介する。
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