技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、めっきの基礎から解説し、半導体・エレクトロニクスへの応用技術、非水溶媒のめっき、環境調和型のめっきなど、最新めっき技術について解説いたします。
現在、世界的にめっき技術が注目を集めている。その理由の一つが、1997年にIBMが開発した半導体の銅配線 (ダマシン法) である。従来、半導体の配線はスパッタリング法によるアルミニウム配線であったが、配線遅延の抑制から抵抗の小さい銅による配線形成が必要になった。しかし、銅はアルミニウムと異なり、反応性イオンエッチングが不可能なために電気めっき法による配線形成が行われた。それまでは、シリコンウエハをめっき液に浸漬することは行われていなかったが、これ以降は、後工程においてもウエハレべルチップサイズパッケージ (W-CSP) など、めっき技術が重要な技術になっている。そのためにめっき技術の研究も活発化して、非水溶媒によるめっき技術の研究開発も活発に行われている。
本講座では、このように活発化しているめっき技術について講義し、さらに、世界の新産業創生の現状についても紹介する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/1/20 | 塗布膜乾燥プロセスのメカニズムと均一化・制御法 | オンライン | |
2025/1/21 | 自動車用を中心とした半導体技術の現状・最新動向と今後の展望 | オンライン |
発行年月 | |
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2012/9/20 | フッ素樹脂 技術開発実態分析調査報告書 |
2012/9/20 | フッ素樹脂 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2012/6/15 | 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2012/6/15 | 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 |
2012/6/1 | 超撥水・超親水化のメカニズムとコントロール |
2012/4/15 | Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書 |
2011/11/15 | 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
2010/6/5 | 半導体技術10社 技術開発実態分析調査報告書 |
2008/9/1 | 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 |
2008/9/1 | 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版) |
2008/3/19 | 多孔体の精密制御と機能・物性評価 新装版 |
2006/8/31 | 基礎から学ぶ事例をふまえたコロナ処理技術 |
1999/10/29 | DRAM混載システムLSI技術 |
1992/11/11 | VLSI試験/故障解析技術 |
1990/6/1 | LSI周辺金属材料・技術 |
1988/10/1 | 高密度表面実装 (SMT) におけるLSIパッケージング技術 |
1988/2/1 | 半導体の故障モードと加速試験 |
1987/11/1 | 最新小型モータ用材料の開発・応用 |
1987/8/1 | 機構部品の故障現象と加速試験 |
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