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反射防止材料・コーティングの作り方、塗布塗膜と応用、その評価

反射防止材料・コーティングの作り方、塗布塗膜と応用、その評価

～反射率のコントロール方法、素材やロットごとの反射率のムラの防止法 / 4K・8Kテレビ 、スマホやカメラ、ウェアラブル機器など、今後の用途展開～
東京都 開催 会場 開催
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開催日

  • 2020年8月5日(水) 10時15分 ～ 16時45分

プログラム

第1部 光学機能性材料のトレンド、反射防止膜の重要性と今後の展望

(2020年8月5日 10:15〜11:45)

　光学機能性材料及びフィルムについて技術の基礎を把握したうえで、特に反射防止フィルムの技術動向・アプリケーション展開等について解説し、今後を展望する。

  1. 光学機能性材料のトレンド
    1. 光学フィルムを構成するフォトニクスポリマー
      1. 光学機能とフォトニクスポリマーの分類
        • PMMA
        • PC
        • PET
        • TAC
        • 透明PI
        • 全フッ素樹脂など
      2. フッ素系フォトニクスポリマーの活用
        • 反射防止加工剤
        • 指紋除去剤
        • インクジェット用バンク材
        • メタル配線形成材 など
    2. ディスプレイ光学フィルムの基礎と市場
      1. ディスプレイ及び光学フィルムの変遷
      2. ディスプレイ光学フィルムの種類・機能と市場動向
      3. ディスプレイ光学フィルムの原理・特徴 (個別紹介)
        • 反射防止フィルム
          • 反射率
          • 反射色調
        • 偏光板
          • 直線
          • 円
          • 楕円
        • ナノリンプリント (ワイヤーグリッドなど)
        • 輝度向上フィルム
        • 複屈折制御フィルム
        • 量子ドット など
  2. 反射防止膜の重要性と今後の展望
    1. 車載用ディスプレイにおける反射防止
    2. 有機ELディスプレイにおける反射防止
      • 円偏光フィルム方式
      • カラーフィルター方式
    3. 反射防止膜の今後の動向
      • 新規な膜材料
      • モスアイ反射防止 など
    • 質疑応答

第2部 ナノインプリントによる反射防止加工フィルムの作製と量産化・耐久性向上技術

～ タッチパネル・太陽電池・有機EL照明への応用 ～

(2020年8月5日 12:30〜13:45)

　ナノインプリントは、ナノスケールの微細構造を製造する技術であり、注目度の高い応用先としてタッチパネル・太陽電池・有機EL照明などが挙げられる。反射防止加工において、数百nmサイズの凹凸を無数に配列したモスアイ構造は、蛾の目を模した生体模倣技術の応用であり、性能の面で優れた手法であると注目されている。
　本セミナーでは、光拡散の制御可能な拡散性モスアイフィルムと大面積金型を製造する干渉リソグラフィ技術、連続的なナノインプリント成型による量産化技術について紹介する。

  1. ナノインプリントの概要
    1. ナノインプリントとは
    2. 想定アプリケーション (タッチパネル、太陽電池、有機EL照明など)
  2. ナノインプリントによる量産化技術
    1. 量産化への課題
    2. Roll-to-Roll方式ナノインプリントによる量産
    3. 隠蔽性
  3. 拡散性モスアイフィルム
    1. モスアイ構造による反射防止機能
    2. 拡散性モスアイ構造による光拡散制御
    3. 干渉リソグラフィによる大面積化技術
    • 質疑応答

第3部 陽極酸化ポーラスアルミナを用いた反射防止膜の製膜技術

(2020年8月5日 14:00〜15:15)

　高圧ガスを発泡剤として用いる物理発泡成形法のについて解説するとともに、高圧ガス発生装置が不要で低コストの物理発泡成形技術「SOFIT」の装置構成、成形性能などを紹介する。

  1. 陽極酸化の基礎
    1. 陽極酸化ポーラスアルミナの形成
    2. 高規則性ポーラスアルミナの形成方法
    3. 高規則性ポーラスアルミナの構造制御
    4. 高規則性ポーラスアルミナを用いた機能的応用例の紹介
  2. 高規則性ポーラスアルミナを用いたナノインプリントプロセス
    1. ポーラスアルミナモールドの形成
    2. ナノインプリントによる規則パターン形成
    3. ロール状モールドを用いた連続インプリント
  3. ナノインプリントプロセスによるモスアイ構造の形成
    1. モスアイ構造形成用ポーラスアルミナモールドの形成
    2. ナノインプリントによるモスアイ構造の形成
    3. 突起形状制御による特性最適化
    4. 射出成型によるモスアイ構造の形成
    • 質疑応答

第4部 硬反射防止コートの設計と湿式法による作製

(2020年8月5日 15:30〜16:45)

　反射防止コートの種類と原理と設計方法および湿式法としてゾル-ゲル法による成膜技術について解説します。また、エクセルを用いて光学干渉による反射スペクトルのシミュレーションを実践します。

  1. 反射防止コートの種類
    1. アンチグレア (AG)
    2. アンチリフレクション (AR)
    3. AGとARの併用
    4. 無反射コート (モスアイ構造)
  2. 反射防止コートの原理と設計方法
    1. 光学干渉による反射防止の原理
    2. 光学干渉による反射防止シミュレーション
    3. モスアイ構造による反射防止の原理
    4. モスアイ構造による反射防止シミュレーション
  3. 反射防止コートの作製技術
    1. 乾式法と湿式法
    2. ゾル – ゲル法とは
    3. ゾル – ゲル法の応用例
    4. ゾル – ゲル法による成膜技術
    • 質疑応答
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講師

  • 青崎 耕 氏
    株式会社 FT-Net
    取締役
  • 井上 智晴 氏
    株式会社 イノックス 機能性フィルム開発担当
  • 柳下 崇 氏
    首都大学東京 大学院 都市環境科学研究科 分子応用化学域
    准教授
  • 羽山 秀和 氏
    株式会社KRI スマートマテリアル研究センター エコマテリアル研究室
    主席研究員
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会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図
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主催

株式会社 技術情報協会
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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 68,000円 (税別) / 74,800円 (税込)
複数名
: 63,000円 (税別) / 69,300円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 63,000円(税別) / 69,300円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 68,000円(税別) / 74,800円(税込)
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    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 189,000円(税別) / 207,900円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

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