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プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ

～プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズム～
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このセミナーは2024年2月に開催したセミナーのオンラインセミナー:オンデマンド配信です。
オンラインセミナーは、お申し込み日より10営業日の間、動画をご視聴いただけます。
お申込は、2024年7月30日まで受け付けいたします。
(収録日:2024年2月16日 ※映像時間:約5時間33分)

概要

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

申込期間

  • 2024年7月30日(火) 10時00分 ～ 17時00分

受講対象者

  • プラズマCVDの応用分野の技術者、研究者
    • 太陽光発電
    • ハイバリア成膜
    • 親水・撥水
    • ディスプレイ
    • 集積回路
    • ミニマルファブなど

修得知識

  • 目的に応じたプラズマ源の選定指針
  • ガス流量、圧力、投入電力、基板温度などの操作パラメータと成膜プロセスとの関係

プログラム

　産業界で高品質なプラズマCVD膜の得るための仕事に従事する方々は、プラズマ源の選定から装置パラメータの設定に至る意思決定をする立場にあると思います。この意思決定を適切に行うためには、各種のプラズマ源の特徴を把握しておく必要があります。
　また、そのプラズマ源を用いたリアクター内で起こる物理・化学的現象が、各種パラメータを変えるとどうなるのか、更にそれが膜質にどのように反映されるのかを把握しておく必要があります。
　本講座では、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムを理解して頂くことを趣旨としました。

  1. なぜプラズマCVD?
    1. ドライだから
    2. 低温だから
    3. 段差被覆性に優れるから
    4. 機能性官能基を含有できるから
    5. 非平衡だから
  2. プラズマと気体放電の基礎
    1. プラズマの温度
      • 低温大気圧プラズマはどうしてできるのか?
    2. 壁との境界「シース」
      • プロセスでは表面近傍の理解が大切
    3. 放電によるプラズマ生成の基礎 (Townsendの放電理論とPaschenの法則)
      • そもそも放電しないと話にならないが、放電しやすい/しにくいは何で決まる?
  3. 各種プラズマ生成方式 (プラズマ源)
    1. 直流放電プラズマ
      • 応用範囲は狭いが、まずはこれで基本原理を理解
      • プラズマ中の電位構造を理解することで、イオン衝撃の制御法がわかる
    2. 高周波放電プラズマ
      • 電極を向かい合わせたらよい?ちがいます電極非対象とコンデンサが重要!
    3. 高密度プラズマ源は何故高密度か?
      • 電子の直進か回転かが密度の決め手
  4. プラズマ化学工学
    1. 制御パラメータと内部パラメータ
      • 操作できるのは何か、実際には何が変わるのか?
    2. プラズマ中の電子のエネルギー分布
      • 電子のエネルギーは数十eVまで拡がる
    3. 電子衝突により一次反応
      • 電子衝突解離で何ができるのか? それは制御可能なのか?
    4. 二次反応とその影響
      • 電子衝突解離で何が生成されるかが関係無い、ということもある
    5. 気相から表面までの輸送過程
      • 通常は拡散だが、イオンのドリフトを使うとイオン衝撃効果を援用できる
  5. 薄膜堆積プロセスの理解と応用技術
    1. 表面プロセスの概要
      • まずは、「膜形成の前駆体が降ってきて、それが付着する」という単純な視点から
    2. 膜構造形成過程の基本的描像
      • 前駆体が持つエネルギーの大小で着地後の振る舞いが変わり、膜構造が変わる
    3. 膜の構造と電子材料としての物性
      • 欠陥とは何か? 何故形成されるのか?
    4. 膜構造形成過程と膜物性
      • 最も良く理解されているa-Si:HのプラズマCVDの描像を例にとって
      • 欠陥を減らすには何を操作するとよい?
    5. 成膜速度と基板温度
      • 成膜速度の向上のためには、基板温度は高くする? それとも低くする?
    6. イオン衝撃の効能
      • 制御によって毒にも薬にもなる
    7. 機能基の含有
      • 電子エネルギー分布の制御と二次反応の賜物
    • 質疑応答
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講師

  • 白藤 立 氏
    大阪市立大学 大学院 工学研究科
    教授
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主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 40,000円 (税別) / 44,000円 (税込)
複数名
: 27,500円 (税別) / 30,250円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 40,000円(税別) / 44,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

オンデマンドセミナーの留意点

  • 申込み後、すぐに視聴可能なため、本セミナーのキャンセルは承りかねます。 予めご了承ください。
  • 録画セミナーの動画をお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • お申し込み前に、 視聴環境 をご確認いただき、 視聴テスト にて動作確認をお願いいたします。
  • 3営業日後までに、メールをお送りいたします。
  • 視聴期間は申込日より10営業日の間です。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
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