技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
洗浄は、半導体製造に重要な役割を持っています。洗浄には流体 (水など) と薬液を用いますが、洗いたい場所に流れが届き、薬液が運ばれて行かないと、薬液は働きません。
そこで、本セミナーでは、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機における水の流れを可視化観察動画・静止画と計算例で眺め、全体像が直感で分かることを目指します。それを起点にして、洗浄効果を上げる要点を説明して行きます。超音波も使われていますが、その効果についても流れと気泡の動画により説明します。さらには、今後、ナノメートル幅の極めて微細なパターンを洗浄する際に見落としがちなこと、一方では、古典的な操作が持っている意味と活用についても考えてみます。これらを総合して、トラブルに対応する時の視点と対策を紹介します。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
発行年月 | |
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1988/10/1 | 高密度表面実装 (SMT) におけるLSIパッケージング技術 |
1988/2/1 | 半導体の故障モードと加速試験 |
1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
1985/11/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ) |