技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ)

アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ)

目次

第1章 アナログICのパターン設計の実際

  • 1. パターン設計の進め方
    • 1.1 ICのパターンレイアウトにおける一般的手順
    • 1.2 モノリシック配置の法則
    • 1.3 具体的なパターン設計例
  • 2. パターンレイアウトにおける注意点
    • 2.1 素子配置における “ペア性” の概念について
    • 2.2 ブロック配置について
    • 2.3 端子 (ピン) 配置について
    • 2.4 抵抗の島分け及び島の電位について
    • 2.5 ジャンパー使用の注意点について
    • 2.6 ブロック間分離について
    • 2.7 Al配線の引き過し上の注意点にまとめると以下の様になる
    • 2.8 Vcc、GND lineの処理について
    • 2.9 電流容量によるAl巾の設定について
    • 2.10 耐サージ対策について
    • 2.11 多層配線を用いる場合の問題点について
    • 2.12 その他のバイポーラIC特有のパターン設計上の問題点について
  • 3. 素子要求特性に伴う素子形状の決定
    • 3.1 飽和特性及びそのパターン対策
    • 3.2 モノリシックトランジスタの周波数特性
      及び、高周波用トランジスタのパターン対策
    • 3.3 耐圧特性 (降状電圧) 及びその設計法
    • 3.4 Lateral PNPTrの耐圧要求に対する形状について
    • 3.5 SubPNPTrについて
    • 3.6 電極構造について
    • 3.7 NPN或いはPNPトランジスタのエミッタ面積決定に関して
    • 3.8 抵抗幅の決定
    • 3.9 コンデンサーについて
    • 3.10 ツエナーダイオードについて
    • 3.11 ダイオードの種類と特性
  • 4. 省略設計法の紹介と概要
    • 4.1 省略設計法誕生の経緯
    • 4.2 省略設計手法とリアル手法との比較
    • 4.3 省略設計法を前提としたパターン設計からマスクまでの流れ
    • 4.4 具体的な省略設計例と自動発生後のパターンとの対応
    • 4.5 省略設計による省力化とその成果
  • 5. まとめ

第2章 アナログIC/LSIのCAD

  • 1. アナログIC/LSI CAD入門
    • 1.1 ミニアナログIC/LSI CADの歴史
    • 1.2 アナログCAD用語
  • 2. CADの流れ
    • 2.1 設計の流れとCADの流れ
  • 3. アナログIC/LSIの回路設計CAD
    • 3.1 回路設計のCAD
    • 3.2 ラフレイアウト
  • 4. アナログIC/LSIのパターン設計CAD
    • 4.1 マニュアル設計
    • 4.2 対話型設計
    • 4.3 自動設計
  • 5. ワークステーション
    • 5.1 市販のワークステーション
    • 5.2 ネットワーク
  • 6. 設計にCADに応用するには

執筆者

  • 藤田 勝治 : 株式会社東芝 第1集積回路技術部 設計第1課 課長
  • 古山 健 : 株式会社東芝 第1集積回路技術部 設計第1課
  • 宮川 準 : 株式会社東芝 第5集積回路技術部 測定器CAD 担当主務

監修

株式会社東芝
第1集積回路技術部
設計第1課
課長
藤田 勝治

出版社

お支払い方法、返品の可否は、必ず注文前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

CD-R 175ページ

発行年月

1985年11月

販売元

tech-seminar.jp

価格

29,500円 (税別) / 32,450円 (税込)

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/1/13 GAA覇権戦争とAIデータセンター経済圏の衝撃への羅針盤 オンライン
2026/1/16 電子回路の公差設計入門 オンライン
2026/1/16 半導体パッケージ技術の基礎講座 オンライン
2026/1/19 負熱膨張材料の開発と熱膨張制御での応用 オンライン
2026/1/19 半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド オンライン
2026/1/19 米中対立下の中国半導体産業の成長と日本企業への示唆 オンライン
2026/1/20 次世代パワー半導体とパワーデバイスの結晶欠陥評価技術 オンライン
2026/1/21 シリコンスラッジの回収と表面処理、応用 オンライン
2026/1/21 ダイヤモンド半導体の最前線と高性能パワーデバイスの開発・評価法 オンライン
2026/1/22 電子部品の特性とノウハウ (2日間) オンライン
2026/1/22 電子部品の特性とノウハウ (1) オンライン
2026/1/22 ダイヤモンド半導体の最前線と高性能パワーデバイスの開発・評価法 オンライン
2026/1/23 半導体・論理回路テストの基礎と応用 オンライン
2026/1/23 半導体プロセスにおける検査・解析技術の基礎と最新技術動向 オンライン
2026/1/26 半導体・論理回路テストの基礎と応用 オンライン
2026/1/26 半導体パッケージ基板のチップレット・Co-Packaged Opticsに向けた高周波実装設計 オンライン
2026/1/27 チップレット・光電融合時代に求められる半導体パッケージ基板設計 オンライン
2026/1/27 ALE (アトミック レイヤー エッチング) 技術の基本原理と開発事例および最新動向 オンライン
2026/1/27 電子部品の特性とノウハウ (2) オンライン
2026/1/28 半導体封止材用エポキシ樹脂・硬化剤・硬化促進剤の種類と特徴および新技術 オンライン

関連する出版物

発行年月
2024/12/27 次世代高速・高周波伝送部材の開発動向
2024/11/13 世界のチップレット・先端パッケージ 最新業界レポート
2024/9/13 世界のAIデータセンターを支える材料・デバイス 最新業界レポート
2024/6/19 半導体・磁性体・電池の固/固界面制御と接合・積層技術
2024/4/30 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/4/28 次世代半導体パッケージの最新動向とその材料、プロセスの開発
2022/11/29 半導体製造プロセスを支える洗浄・クリーン化・汚染制御技術
2022/10/31 半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/6/29 高周波対応基板の材料・要素技術の開発動向
2022/6/17 2022年版 電子部品市場・技術の実態と将来展望
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
2022/6/13 パワー半導体〔2022年版〕
2021/11/12 レジスト材料の基礎とプロセス最適化
2021/6/18 2021年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2020/7/17 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2019/7/19 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決