第1部 リソグラフィの微細化とEUVリソグラフィ用フォトレジストの開発

(2024年1月24日 10:30〜12:00)

　昨今、私たちは新たなデジタル社会と対面している。世の中で頻繁にその言葉を耳にするIOT、AI、Soceity5.0等の発展に対し、さらなるデバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められている。そのために不可欠なのがリソグラフィの微細化であり、その実現には、フォトレジスト材料の開発が必須である。究極の微細化であるEUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発に関し、その歴史、背景を交え解説する。

1. 世の中を取り巻く環境の変化
   1. アナログからデジタルへ、電子デバイスの高速化、大容量化、省電力、AI活用の例
   2. 昨今話題の日本の半導体産業への取り組み
2. リソグラフィ微細化の歴史
   1. リソグラフィとは。なぜフォトレジストが必要か。
   2. 微細化を牽引するムーアの法則と露光波長短波化によるリソグラフィ微細化の歴史
   3. EUVリソグラフィ実用化困難時代に生まれたArF液浸リソグラフィの延命の切り札、富士フイルムによるNegative-tone imaging (NTI) 技術の発明
3. EUVリソグラフィ
   1. EUVリソグラフィの歴史、実用化に必要な3つの課題とその重要性の推移
   2. 最初にたちはだかった大きな課題、アウトガス問題
   3. 国家プロジェクトにて対応したアウトガス問題解決 (EIDEC成果)
   4. 国家プロジェクトにて対応した露光機課題や新規材料開発 (メタルレジスト) の紹介
   5. EUVレジスト特有の課題、ストカスティック因子に関して
   6. リソグラフィ工程におけるストカスティック因子解析
   7. フォトンストカスティックとケミカルストカスティックの解説と解決手段例
• 質疑応答

第2部 EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術

(2024年1月24日 13:00〜14:30)

1. EUVLの概要
   1. EUVLの概要
   2. EUVL用レジスト
2. アウトガス評価技術
   1. EUVLレジストのアウトガス評価方法
   2. EUVLレジストのアウトガス評価装置
3. EUVレジストの評価技術
   1. EUV透過率測定
   2. ナノパーティクル添加レジストの高感度化
   3. 屈折率nk測定
   4. EUV2光束干渉露光
4. EUVメタルレジストの評価技術
   1. メタルレジストの概要
   2. EUVメタルレジストのアウトガス分析
   3. EUVメタルレジストの問題点
5. EUVフォトレジストと電子線レジストの感度
• 質疑応答

第3部 放射線化学に基づいたメタルレジストの反応機構と課題

(2024年1月24日 14:45〜16:15)

　EUVリソグラフィにおいて、次世代サブ10 nmHP用 (オングストロームノード用) として期待されるメタル含有レジストの反応機構と課題について解説します。

1. レジストとは
2. 次世代レジストの課題
3. レジストの像形成機構
4. なぜ、メタルが必要か
5. 光吸収と光電子放出
6. 二次電子と減速過程と熱化
7. 熱化電子の還元作用
8. 放射線化学反応
9. 溶解度変化のメカニズム
10. 課題
11. まとめ
• 質疑応答