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二酸化ゲルマニウム (GeO2) の特徴と基礎研究開発

二酸化ゲルマニウム (GeO2) の特徴と基礎研究開発

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、大きな可能性を秘めた新しいパワー半導体材料として注目されている二酸化ゲルマニウムを取り上げ、二酸化ゲルマニウムの基礎的な物性や世界の研究状況について解説いたします。

開催日

  • 2023年11月27日(月) 13時00分 15時00分

受講対象者

  • 材料系の技術者、開発者
  • SiCやGaN、酸化ガリウム等のパワー半導体材料の技術者、開発者
  • 半導体業界の新材料に関心がある方

修得知識

  • GeO2の半導体としての特徴
  • GeO2の研究状況

プログラム

 現在、大きな可能性を秘めた新しいパワー半導体材料として注目されている二酸化ゲルマニウム (GeO2) の基礎的な物性や世界の研究状況をお話します。GeO2は古くて新しい材料で、Ge金属表面の酸化物層として知られます。熟練の半導体研究者にとっては、「容易に水に溶ける軟弱な材料」と思われますが、結晶相であるルチル構造GeO2の場合は水に溶解せずに耐熱性も高く、バンドギャップが4.6 eVの超ワイドギャップ半導体です。2019年頃よりパワーデバイスとして優れた性能をもつことが米国を中心に盛んに理論予測され始めました。具体的には、ドーピングによるp型とn型の導電性制御が可能である事、電子、正孔ともに高い移動度を有している事です。2020年に米国の大学からMBEによる極薄膜 (4時間成長で40 nm) の作製が報告されましたが、非常に製膜が困難な材料です。
 当研究室では、2021年に1μm/h以上の成長速度をもつ厚膜の作製を報告し、2022年には混晶膜の作製も共同で発表しました。当研究室以外でもPLD法等で厚膜の作製が報告されるなど、研究者人口が徐々に増え始めていますが、ここ数年で注目を集め始めた材料ですので、まだまだ小規模です。一方で大きな可能性をもつ材料ですので、それらの可能性についてもお話します。

  1. GeO2の可能性
    • バンドギャップ4.6 eV
    • p型とn型が作製可能 (理論予測)
    • 高い移動度
    • 安価に基板作製可能
    • 酸化物の中では高い熱伝導率
  2. なぜ、GeO2の薄膜合成はきわめて困難なのか?
  3. GeO2厚膜の合成と高速成長
  4. GeO2のバンドギャップ変調
  5. 世界のGeO2研究
    • 質疑応答

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 35,000円 (税別) / 38,500円 (税込)
複数名
: 17,500円 (税別) / 19,250円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

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  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 32,000円(税別) / 35,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 35,000円(税別) / 38,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 52,500円(税別) / 57,750円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 35,000円(税別) / 38,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 70,000円(税別) / 77,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 105,000円(税別) / 115,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

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本セミナーは終了いたしました。