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半導体用レジストの基礎と材料設計および環境配慮型の新規レジスト除去技術

半導体用レジストの基礎と材料設計および環境配慮型の新規レジスト除去技術

~レジストの特性や光化学反応、評価手法、EUVレジストや化学増幅型レジストなどを丁寧に解説~
オンライン 開催

アーカイブ配信で受講をご希望の場合、視聴期間は2025年3月5日〜18日を予定しております。
アーカイブ配信のお申し込みは2025年3月5日まで承ります。

概要

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説いたします。

開催日

  • 2025年2月20日(木) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • レジスト材料・プロセスの研究や開発に関わる方
  • 半導体、ディスプレイ、MEMSなどのデバイス開発、製造、販売に携わる方
  • レジストメーカー、およびレジストメーカーに原料を提供する素材メーカーの方

修得知識

  • レジストを製造するための基礎知識、材料設計指針
  • レジストを使用する際の留意事項
  • リソグラフィープロセスについて
  • 素材メーカー、レジストメーカーとしてのデバイスメーカー対応能力
  • レジスト材料
    • ノボラック系ポジ型レジスト
    • 化学増幅型レジスト
  • レジスト評価法について
  • レジスト除去 (剥離) 技術について

プログラム

 半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説します。
 半導体、LCD等の電子デバイス製造では、成膜、パターン作製 (レジスト塗布、露光、現像) 、エッチング、レジスト剥離、洗浄等のプロセスを複数回繰り返すことにより、基板上に微細素子がパターンニングされたトランジスタが形成される。これらの工程はリソグラフィー工程と呼ばれ、おおよそ20回から30回繰り返されることになる。
 本講演では、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセスについて解説するとともに、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説する。レジスト剥離 (除去) 技術 については、環境に優しい新規な技術として、活性種として水素ラジカル、湿潤オゾン、マイクロバブル水を用いた技術について解説する。
 また、元デバイスメーカーにいた者の視線で、レジストメーカーに原料を提供する素材メーカーにおけるレジスト評価法の具体的な手法について丁寧に解説したい。

  1. 感光性レジストの基礎とリソグラフィー工程の解説
    1. 感光性レジストとは?
    2. リソグラフィーについて
    3. フォトレジストの塗布、露光、露光後ベーク (PEB) 、現像工程の概要
  2. レジスト設計の変遷とその作用メカニズム
    1. 半導体・電子デバイスの進化とレジスト設計の変遷
    2. レジストの基本原理
    3. レジストの現像特性
  3. ノボラック系ポジ型レジストの材料設計
    1. レジスト現像アナライザ (RDA) を用いた現像特性評価
    2. ノボラック系ポジ型レジストの分子量とレジスト特性の関係
    3. ノボラック系ポジ型レジストのプリベーク温度を変えたレジスト特性評価
    4. PACのエステル化率を変化させたノボラック系ポジ型レジストのレジスト特性
    5. ノボラック系ポジ型レジストの現像温度とレジスト特性との関係
  4. 化学増幅ポジ型レジストの材料設計
    1. 化学増幅ポジ型3成分レジストのベース樹脂とレジスト特性
      • ベース樹脂
      • 溶解抑制剤
      • 酸発生剤
    2. 化学増幅ポジ型3成分レジストの溶解抑制剤とレジスト特性
    3. 化学増幅ポジ型3成分レジストの酸発生剤とレジスト特性
    4. EUVレジストへの展開
    5. i線厚膜レジストへの展開
  5. 環境に優しい新規なレジスト除去技術について
    1. 活性種として水素ラジカルを用いた場合
    2. 活性種として湿潤オゾンを用いた場合
    3. 活性種としてオゾンバブル水を用いた場合
    4. イオン注入工程を経たレジストの化学構造とレジスト除去技術
    • 質疑応答

講師

  • 堀邊 英夫
    大阪公立大学 大学院 工学研究科 物質化学生命系専攻 化学バイオ分野
    教授, 学長特別補佐

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,200円 (税別) / 42,020円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 38,200円(税別) / 42,020円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信対応セミナー / アーカイブ配信対応セミナー

ライブ配信またはアーカイブ配信セミナーのいずれかをご選択いただけます。

ライブ配信セミナーをご希望の場合

  • 「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

アーカイブ配信セミナーをご希望の場合

  • 「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
  • お申し込み前に、 視聴環境 をご確認いただき、 視聴テスト にて動作確認をお願いいたします。
  • 別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
  • 視聴期間は2025年3月5日〜18日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。

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