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半導体用レジストの材料設計とレジスト除去技術

半導体用レジストの材料設計とレジスト除去技術

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概要

本セミナーでは、半導体用レジスト技術の基礎から解説し、樹脂成分とレジスト特性の関係性、環境に優しい除去技術を詳説いたします。

開催日

  • 2023年4月18日(火) 10時30分 ～ 16時30分

プログラム

　半導体、LCD等の電子デバイス製造では、成膜、パターン作製 (レジスト塗布、露光、現像) 、エッチング、レジスト剥離、洗浄等のプロセスを複数回繰り返すことにより、基板上に微細素子がパターンニングされたトランジスタが形成される。これらの工程はリソグラフィー工程と呼ばれ、おおよそ20回から30回繰り返されることになる。また、レジスト剥離工程においては、硫酸、過酸化水素、アミン系有機溶剤など環境負荷の大きい薬液を現状では大量に使用している。特に、イオン注入工程を経たレジストはレジスト表面が変質しており除去が非常に困難である。
　本講演では、レジスト材料 (感光性樹脂) そのものについて解説するとともに、レジスト剥離工程について従来の剥離技術、及び新規な環境に優しいレジスト剥離 (除去) 技術について解説する。イオン注入工程を経たレジストの化学構造や除去技術についても紹介する。レジストについては、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの成分とレジスト特性との関係について解説する。レジスト剥離 (除去) については、環境に優しい新規な技術として、活性種として水素ラジカル、湿潤オゾン、マイクロバブル水を用いた技術について解説する。

  1. 感光性レジストの基礎とリソグラフィー工程の解説
    1. 感光性レジストとは
    2. リソグラフィーについて
    3. フォトレジストの塗布、露光、露光後ベーク (PEB) 、現像工程の概要
  2. レジスト設計の変遷とその作用メカニズム
    1. 半導体・電子デバイスの進化とレジスト設計の変遷
    2. レジストの基本原理
    3. レジストの現像特性
    4. レジストとSi基板との密着性について
  3. ノボラック系ポジ型レジストの材料設計
    1. レジスト現像アナライザを用いた現像特性評価
    2. ノボラック系ポジ型レジストの分子量とレジスト特性の関係
    3. ノボラック系ポジ型レジストのプリベーク温度を変えたレジスト特性評価
    4. PACのエステル化率を変化させたノボラック系ポジ型レジストのレジスト特性
    5. ノボラック系ポジ型レジストの現像温度とレジスト特性との関係
  4. 化学増幅ポジ型レジストの材料設計
    1. 化学増幅ポジ型3成分レジストのベース樹脂とレジスト特性
      • ベース樹脂
      • 溶解抑制剤
      • 酸発生剤
    2. 化学増幅ポジ型3成分レジストの溶解抑制剤とレジスト特性
    3. 化学増幅ポジ型3成分レジストの酸発生剤とレジスト特性
    4. EUVレジストへの展開
    5. i線厚膜レジストへの展開
  5. 環境に優しい新規なレジスト除去技術について
    1. 活性種として水素ラジカルを用いた場合
    2. 活性種として湿潤オゾンを用いた場合
    3. 活性種としてオゾンバブル水を用いた場合
    4. イオン注入工程を経たレジストの化学構造とレジスト除去技術
  6. 今後の展望
    • 質疑応答
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講師

  • 堀邊 英夫 氏
    大阪公立大学 大学院 工学研究科 物質化学生命系専攻 化学バイオ分野
    教授, 学長特別補佐
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

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  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

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