技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、次世代リソグラフィ技術として注目を集めるDSAリソグラフィについて取り上げ、ブロックコポリマーの合成手法、微細で高精度なナノパターンの形成方法、DSAリソグラフィの開発動向について解説いたします。
(2025年6月27日 10:30〜12:00)
本講座においては、ブロックコポリマーのミクロ相分離に関する基礎知識を概説するとともに、その自己組織化および自己組織化を制御する方法である誘導自己組織化による無欠陥なナノパターンの創成についても述べる。
(2025年6月27日 13:00〜14:30)
DSA (誘導自己組織化:Directed Self-Assembly) 技術は低コストで微細なパターン形成が可能なため次世代のリソグラフィ技術として期待されている。また、現状のリソグラフィ技術とDSAを組み合わせることでより微細な規則的なパターン形成が可能となる。DSAプロセスはBCP (ブロックコポリマー:Block Copolymer) がミクロ相分離構造を形成する特徴を用いてパターンを形成する。BCPの自己組織化によって得られた相分離領域はポリマーのサイズ (分子量) と相関する。すなわち、ポリマーサイズの厳密な制御が必要となることから、DSAプロセスに適応させるポリマーはサイズをより精密に制御し、量産する技術が要求されている。我々のリビングアニオン重合技術を用いた取り組みについて紹介する。
(2025年6月27日 14:45〜16:15)
多くのブロックコポリマーは石油系の合成高分子から構成されている。本講座ではブロックコポリマーの一成分としてオリゴ糖を使ったオリゴ糖鎖含有ブロックコポリマーに焦点を当て、その合成法や溶液・固体中での自己組織化について解説する。また、それらがナノ材料だけでなく、バイオベース高分子材料など多様な分野に応用できることを紹介する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
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