技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

ミストCVD技術の開発と今後の可能性

ミストCVD技術の開発と今後の可能性

~ミスト流を利用した注目の機能膜作製手法の現在地と今後の展望~
オンライン 開催

概要

本セミナーでは、様々な薄膜の作製を可能にするミストCVD法の基礎知識と今後の展望を解説いたします。

開催日

  • 2022年7月6日(水) 13時00分 17時00分

修得知識

  • 機能膜作製プロセス
  • 大気圧・非真空プロセス
  • 溶液プロセス
  • ミストCVD
  • 電子デバイス (ディスプレイ・センサー・スイッチング素子・発光素子・量子素子)
  • コーティング (不動態膜・透明導電膜)
  • 組成制御

プログラム

 大気圧下で大面積に亘り高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、詳しく説明します。

第1部 ミストCVD技術の開発初期

  1. 緒言
    1. 自己紹介
    2. 高知工科大学について
    3. 高知工科大学 総合研究所について
  2. 機能膜作製技術の現状とこれからの開発ポイント
    1. どういった物に利用されているのか
    2. それらを作製するシステムの大きさやコストについて
    3. 省エネプロセスの必要性とそれが達成されない理由
    4. 大気圧下で対象とする機能膜を形成する為のポイント
  3. ミストを利用した機能膜形成技術「ミストCVD」の特徴
    1. ミスト法とは
    2. 従来の成膜手法に対するミストCVD法の立場
    3. 超音波噴霧を利用した機能膜形成技術の歴史
  4. 原料供給手段に超音波噴霧を利用する利点
    1. 各種液滴の発生法
    2. 一般環境下で薄膜を形成するために適した液滴発生法とは
  5. ミスト流を用いた機能膜作製システムの装置群
    1. ミスト流を用いた機能膜作製システム
    2. 原料供給器
    3. 成膜反応装置周囲の基本システム
  6. ミストCVDの物理1
    1. 均質膜を作製する為の3つの手段
    2. 液滴のライデンフロスト状態

第2部 ミストCVD技術の応用と発展

  1. ファインチャネル (FC) システムvsホットウォール (HW) システム
    1. 解析構造・条件
    2. 結果
  2. ミストCVDで作製出来る機能膜
    1. これまでに形成できた薄膜種
    2. 酸化亜鉛系 (ZnO)
    3. 酸化ガリウム系 (Ga2O3)
    4. 酸化アルミニウム (AlOx)
    5. 酸化インジウムガリウム亜鉛 (IGZO)
    6. 有機膜
    7. 層状硫化モリブデン (MoS2)
    8. その他
  3. ミストCVDで作製したデバイス
    1. 大気圧手法により形成された酸化物TFTの現状
    2. ミストCVDによるIGZO TFTの作製
    3. 特性および最適化
    4. その他のデバイス
      • IGZO
      • Ga2O3
      • SnO2 MESFET
      • Organic SC等
  4. ミストCVDによる量子素子の作製とその特徴
    1. 大気圧下で量子井戸が形成できる理由
    2. 作製した量子井戸の特徴
  5. ミストCVDの物理2
    1. ミスト同士は衝突しない
    2. 複合反応の抑制
    3. 組成制御技術
  6. ミストCVDの物理3
    1. 反応炉内でのミスト液滴の挙動
    2. ミスト流を利用した成膜プロセスにおける反応メカニズム
  7. まとめ
    1. ミストCVDとこれからのミストCVD
    2. ミストCVDの他なる可能性
    • 質疑応答

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 35,000円(税別) / 38,500円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 35,000円(税別) / 38,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/4/26 高屈折率材料の基礎と技術応用超高屈折率材料への分子設計 オンライン
2024/4/26 共押出多層フィルムの成形技術、押出安定化とトラブル対策 オンライン
2024/5/9 溶融製膜/溶液製膜によるフィルム成形技術の基礎と実際 オンライン
2024/5/10 高分子材料の粘弾性の基礎と応力/ひずみの発生メカニズムとその制御・評価技術 オンライン
2024/5/14 真空技術の基本と機器の運用・問題解決のコツ オンライン
2024/5/22 プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応 オンライン
2024/5/27 スパッタリング薄膜の密着性改善技術とトラブル対策 オンライン
2024/5/31 Tダイ成形機の基礎とフィルム成形トラブル対策 東京都 会場
2024/6/4 プラズマCVD (化学気相堆積) 装置による高品質薄膜の成膜技術、および量産化対応 オンライン
2024/6/5 プラズマCVDによるナノ・微粒子材料の作製技術とプロセスモニタリング オンライン
2024/6/6 スパッタリングの基本と考え方、膜の作り方、その応用 オンライン
2024/6/25 界面・表面、応力影響、剥離・破壊の基本知識と密着性の改善技術と評価方法 東京都 会場・オンライン
2024/6/25 分子プレカーサー法による機能性薄膜の形成と応用事例 オンライン
2024/6/28 ポリイミド入門講座 オンライン
2024/6/28 スパッタリング法による薄膜形成技術とトラブルシューティング オンライン
2024/7/3 スパッタリング法による薄膜形成技術とトラブルシューティング オンライン
2024/7/11 ポリイミド入門講座 オンライン
2024/7/25 基礎から理解するポリイミドの高性能化・機能化設計 オンライン
2024/7/30 プラズマ生成の基礎とプラズマCVD (化学気相堆積) による高品質成膜プロセスのノウハウ オンライン