技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

機能水洗浄のメカニズムと進め方、機能水の選定、不純物分析

機能水洗浄のメカニズムと進め方、機能水の選定、不純物分析

オンライン 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、半導体、ディスプレイ、5G機器などの精密洗浄への要求特性とそのクリーン度の実際、使用する薬剤や設備、環境安全性、洗浄度評価の手法と進め方などについて詳解いたします。

開催日

  • 2022年2月24日(木) 10時30分 ～ 16時15分

受講対象者

  • 半導体洗浄に携わる技術者、研究者
  • これから半導体洗浄に携わる技術者、研究者
  • 新製品の洗浄技術を開発している技術者、研究者
  • 既存製品の洗浄工程の改善を検討している技術者、研究者
  • トラブルの原因を体系的に考えたい技術者、研究者

修得知識

  • エレクトロニクスをはじめとする先端材料の洗浄方法
  • 目的に合わせた「きれい」の定義
  • 表面と水流を整える考え方
  • 工業プロセスに共通して潜在する化学工学 (移動現象)
  • 機能水による半導体洗浄技術
  • 機能水製造装置の概要
  • 半導体洗浄プロセスで用いられる化学薬品
  • 半導体洗浄プロセス用薬品の種類や品質
  • 半導体洗浄プロセスのしくみ

プログラム

第1部 エレクトロニクス分野における洗浄の進め方と装置

(2022年2月24日 10:30〜12:00)

　洗浄には多種多様な対象と形式があります。本講では、エレクトロニクス分野に範囲を絞り、それに共通する事項について述べて行きます。最初に、洗浄する目的と目指す結果 (状態) を見定め、次に、それを実現するために用いる操作と装置の全体を概観することを目指します。これにより、機能水洗浄を用いる実務の効率と質を上げるための基盤を作ることが目的です。
　本講では、講師が長年に亘り大口径半導体ウエハを取り扱う装置を研究してきた内容を展開します。研究で得られた動画と知見を基に、例えば、薬液がどのように動いて表面に作用し、超音波はどのように働くかを紹介します。そして、トラブルがあった時に、対策を取るための考え方と方法を簡潔に説明します。
　エレクトロニクス分野に限らず、先端産業の洗浄技術者、広く液体を使うプロセスの技術者にも参考にして頂けます。

  1. 洗う理由:汚れは何?いつ、どこからなぜやって来る?
  2. 一般の洗浄
    • 洗浄の4要素
      • 温度
      • 時間
      • 化学
      • 力学
  3. エレクトロニクス分野の洗浄に特有のこと (洗浄の目的)
  4. 洗浄の基礎現象
    1. 表面現象
      • 付着
      • 脱離
      • 引き剥がす
    2. 化学工学
      • 流れ
      • 熱
      • 拡散
      • 反応
    3. 装置内流れの種類
      • 循環流れ
      • 一方向流れ
      • 流れは変えられる
    4. 身近な流れの可視化観察例
  5. 洗浄機内の流れと反応
    1. スピン方式:枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ
        • 観察と計算
        • 流れの特徴
      2. 化学反応の例
        (流れが分かると、細かいところまで計算できる)
    2. 槽を用いる方式:バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ
        • 観察と計算
        • 潜在する課題と解決法
      2. 水流を整える方法
    3. 超音波洗浄:超音波の働きと水・気泡の動き
  6. まとめ+困った時に考えること
    • 質疑応答

第2部 電子産業向け洗浄用機能水の特徴とその選定、高純度化

(2022年2月24日 13:00〜14:30)

　半導体および先端デバイス基板表面をダメージレスで高清浄に洗浄する機能水洗浄技術について解説する。

  1. 電子産業向け機能水の種類と用途
  2. 水素水、溶存ガス濃度コントロール水
    1. 微粒子除去洗浄のメカニズム
    2. 超音波洗浄における水素水の効果
    3. 溶存ガス濃度コントロール水による洗浄効果
    4. アルカリ添加の効果
    5. アルカリ濃度制御の必要性
  3. オゾン水
    1. オゾン水による有機物汚染除去、表面親水化
    2. オゾン水と酸の組み合わせによるメタル汚染除去
  4. CO2水や希薄NH3水による静電気抑制
    1. CO2水の静電気抑制効果
    2. 希薄NH3水の静電気抑制効果
  5. 水素水や希薄NH3水によるダメージレス洗浄
    1. 酸化腐食防止効果
    2. 金属溶解抑制効果
    3. H2O2フリー超純水の応用
  6. 各種機能水の製造方法
    1. 水素水製造装置
    2. 希薄NH3水製造装置
    3. オゾン水製造装置
    • 質疑応答

第3部 半導体洗浄プロセスにおける化学薬品について

(2022年2月24日 14:45〜16:15)

　半導体製造において洗浄プロセスは重要であり、そこに使用される様々な薬品について洗浄のメカニズムと合わせ報告する。洗浄に用いられる薬品品質は半導体製造歩留まりに大きく影響することなども説明する。

  1. 半導体洗浄プロセスについて
    1. 半導体洗浄プロセスに使用される薬品
    2. 洗浄プロセス (RCA洗浄)
    3. SPM洗浄
    4. APM (SC-1) 洗浄
    5. HPM (SC-2) 洗浄
  2. 薬品品質について
    1. 電子工業用 (半導体用) 薬品品質
    2. 薬品品質とロードマップ
    3. 薬品品質の変遷
    4. 薬品品質が与える影響
    5. 高純度薬品不純物分析の課題
  3. 洗浄プロセス課題、ソリューション等
    1. RCA洗浄の課題
    2. 配線形成プロセスにおける洗浄
    • 質疑応答
ページのトップヘ

講師

ページのトップヘ

主催

株式会社 技術情報協会
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2025/9/16 物理学で理解するEUVリソグラフィの基礎・応用・課題と将来展望 オンライン
2025/9/17 洗浄バリデーションにおけるリスク評価と残留許容値設定/運用 オンライン
2025/9/18 GMPに基づいた衛生管理とその徹底 オンライン
2025/9/18 半導体封止材用エポキシ樹脂・硬化剤・硬化促進剤の種類と特徴および新技術 オンライン
2025/9/24 最新CMP技術 徹底解説 オンライン
2025/9/25 最新CMP技術 徹底解説 オンライン
2025/9/26 先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程 オンライン
2025/9/29 SiCパワー半導体・ウェハ開発の現状と高品質化・低コスト化への課題 オンライン
2025/9/29 半導体デバイスの物理的ウェット洗浄の基礎と最新情報の展開 オンライン
2025/9/30 SiCパワー半導体・ウェハ開発の現状と高品質化・低コスト化への課題 オンライン
2025/10/6 GaNウェハ・パワーデバイスの技術動向と用途展開 オンライン
2025/10/7 PFAS規制の動向と半導体業界への影響、対応状況、今後の方向性 オンライン
2025/10/8 開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策 東京都 会場・オンライン
2025/10/15 半導体デバイスの物理的ウェット洗浄の基礎と最新情報の展開 オンライン
2025/10/16 半導体材料と半導体デバイス製造プロセス オンライン
2025/10/17 パワーデバイスSiC結晶欠陥の基礎知識とその観察・評価技術 オンライン
2025/10/17 PFAS規制の動向と半導体業界への影響、対応状況、今後の方向性 オンライン
2025/10/20 半導体産業動向 2025 オンライン
2025/10/21 半導体材料と半導体デバイス製造プロセス オンライン
2025/10/21 先端パッケージングの全体像 (開発動向&ビジネス化戦略) およびRDLインターポーザ最新技術動向 会場・オンライン
ページのトップヘ