技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、様々な薄膜の作製を可能にするミストCVD法の基礎知識と今後の展望を解説いたします。
(2021年12月24日 10:30〜14:30) ※途中、昼休み含む
我々の生活を支える光・電子素子は機能膜の組合わせで構成されている。それらを作製手法は、現在、省エネ・原子レベル高品質・大面積均一の3つを同時に達成させる事ができない。ミストCVDはそれらの同時達成を目標に開発されてきた成膜技術であり、カーボンニュートラルに向けた技術として必要不可欠である。
講演ではそういった開発の経緯、関連技術の歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、説明します。
(2021年12月24日 14:45〜16:30)
ミストを利用した成膜法では、気体を用いて原料を基材に連続して供給します。この際原料は数μmの微小液体 (ミスト) を用います。この気液混合の成膜プロセスであり連続した供給が可能であるという特徴から、目的とする基材の形状に応じた原料供給が可能なこと、Roll to Roll 方式などの連続した成膜に対応ができること、等が利点として考えられます。
株式会社 ニコンは、東北大学 多元物質科学研究所と共同で、新たに水分散性ITO粒子を開発しました。本粒子は単独で水に分散するため、既存の材料では必要な界面活性剤や有機溶剤等など、高抵抗率化の要因となり得る添加物を大幅に削減できます。これにより従来の非水系インク材料を用いた透明導電膜形成と比べ、より低温で透明導電膜を形成することが可能です。本講演では、本粒子の水系インクを原料としたミストデポジション法における成膜結果も紹介します。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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1991/8/1 | 液晶パネル製造プロセス技術 |
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