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レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

レジストとリソグラフィの基礎とトラブル解決策

~レジスト材の高性能化、評価技術、最近のリソグラフィ技術など~
東京都 開催

概要

本セミナーでは、レジストの基礎からリソグラフィープロセスの最適化方法までを分かりやすく解説いたします。

開催日

  • 2018年10月31日(水) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • レジスト材料の研究開発、製造、品質管理、販売に携わる方
  • 半導体、ディスプレイ、MEMS、センサーなどのデバイス開発、製造、販売に携わる方

修得知識

  • レジストを製造するための基礎知識、設計概念と具体的方法
  • レジストの品質管理手法
  • レジストを使用する際の留意事項、トラブル対応
  • リソグラフィープロセスの最適化
  • リソグラフィー使用現場におけるトラブル対応
  • 素材メーカー、レジストメーカーとしての顧客対応

プログラム

  1. リソグラフィの基礎
    1. リソグラフィーとは
    2. 露光システムとリソグラフィー装置の変遷
  2. レジスト材料とその高性能化
    1. パターンニング用レジスト材料 (総論)
    2. G線、i線用レジスト
    3. KrF用レジスト
    4. ArFおよびArF液浸用レジスト
    5. EUV用レジスト
  3. レジスト製造技術と品質管理
    1. レジスト製造技術
    2. レジストの性能安定化技術
    3. 品質管理 – その項目と方法
  4. レジスト材料の評価技術
    1. 性能評価
    2. 品質評価
    3. シミュレーション技術
  5. レジスト製造、および使用現場におけるトラブル対応
    1. 種々のトラブルとその解決策 (材料面から)
    2. 種々のトラブルとその解決策 (プロセス面から)
    3. 顧客対応の方法
  6. 20nm以下のリソグラフィー技術
    1. ダブルパターンニング技術
    2. DSA技術とその材料
    3. ナノインプリント技術
    4. 今後のリソグラフィー技術
    • 質疑応答

会場

商工情報センター カメリアプラザ

9F 会議室

東京都 江東区 亀戸2-19-1 カメリアプラザ 9F
商工情報センター カメリアプラザの地図

主催

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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

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    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 43,750円(税別) / 47,250円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 46,278円(税別) / 49,980円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 69,417円(税別) / 74,970円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 46,278円(税別) / 49,980円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 92,556円(税別) / 99,960円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 138,833円(税別) / 149,940円(税込)
本セミナーは終了いたしました。

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