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SiC / GaNパワーデバイスの現状・課題・展望

SiC / GaNパワーデバイスの現状・課題・展望

~EV対応に向けた性能、信頼性の向上~
東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、最新シリコンIGBTデバイスの状況からSiC・GaNパワーデバイスの最新技術、さらに、最新の実装技術についても解説いたします。
特にSiC/GaNパワーデバイスを広く市場に普及するためのポイントについて、丁寧に解説いたします。

開催日

  • 2018年9月28日(金) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • パワーデバイス、SiC半導体、GaN半導体に関連する技術者

修得知識

  • パワーデバイスの最新技術動向
  • SiCパワーデバイス / GaNパワーデバイスの特長と課題
  • SiCデバイス実装技術
  • SiCデバイス特有の設計、プロセス技術
  • SiCパワーデバイス / GaNパワーデバイスの今後の見通し

プログラム

 2017年は、電気自動車 (EV) の開発に向け大きく進展する年となった。世界最大の自動車市場である中国をはじめヨーロッパはハイブリッド車を飛び越えてEVシフトへ舵を切った。日本、アメリカを巻き込んで世界全体でEV開発がいよいよ本格化した年となった。EVの性能を決める基幹部品であるパワーデバイスでは、新材料SiC/GaNデバイスの普及が大いに期待されている。しかしながら現状では、性能、信頼性、さらには価格の面で市場の要求に十分応えられているとは言えない。
 本セミナーでは、最新シリコンIGBTデバイスの状況からSiC・GaNパワーデバイスの最新技術、さらに、最新の実装技術についても解説する。特にSiC/GaNパワーデバイスを広く市場に普及するためのポイントは何かについて丁寧に解説したい。

  1. パワーエレクトロニクスとは?
    1. パワエレ&パワーデバイスの仕事
    2. パワー半導体の種類と基本構造
    3. パワーデバイスの適用分野
    4. 高周波動作のメリットは?
    5. シリコンMOSFET・IGBTだけが生き残った。なぜ?
    6. パワーデバイス開発のポイントは何か?
  2. 最新シリコンIGBTの進展と課題
    1. IGBT開発のポイント
    2. IGBT特性向上への挑戦
    3. 薄ウェハ フィールドストップ (FS) 型IGBTの誕生
    4. IGBT特性改善を支える技術
    5. 薄ウェハ化の限界
    6. 最新のIGBT技術:まだまだ特性改善が進むIGBT
  3. SiCパワーデバイスの現状と課題
    1. 半導体デバイス材料の変遷
    2. ワイドバンドギャップ半導体とは?
    3. SiCのSiに対する利点
    4. 各社SiC-MOSFETを開発。なぜSiC-IGBTではないのか?
    5. SiCウェハができるまで
    6. SiC-ダイオードそしてSiC-MOSFET開発へ
    7. 太陽光PCSに使われたSiC-MOSFET
    8. なぜSiC-MOSFETがEV,PHVに適しているのか?
    9. SiCのデバイスプロセス
    10. SiCデバイス信頼性のポイント
    11. 最新SiCトレンチMOSFET
  4. GaNパワーデバイスの現状と課題
    1. なぜGaNパワーデバイスなのか?
    2. GaNデバイス構造は”横型GaN on Si”が主流。なぜGaN on GaNではないのか?
    3. GaN-HEMTデバイスの特徴
    4. GaN-HEMTのノーマリーオフ化
    5. GaN-HEMTの課題
    6. Current Collapse現象メカニズム
    7. GaNパワーデバイスの強み、そして弱みはなにか
    8. 縦型GaNデバイスの最新動向
  5. 高温対応実装技術
    1. 高温動作ができると何がいいのか
    2. SiC-MOSFETモジュール用パッケージ
    3. ますます重要度を増すSiC-MOSFETモジュール開発
  6. まとめ

会場

江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)

9F 研修室

東京都 江東区 亀戸2-19-1
江東区役所 商工情報センター (カメリアプラザ)の地図

主催

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お問い合わせ

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受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

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    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 46,278円(税別) / 49,980円(税込)
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    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 138,833円(税別) / 149,940円(税込)
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