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本セミナーでは、プラズマエッチングの基礎から解説し、チャンバー材料の腐食やパーティクルの発生を抑えるための技術を解説いたします。

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、大気圧プラズマについて取り上げ、エネルギー・環境問題におけるプラズマ技術の役割から、プラズマの発生方法、反応システムの組み立て方、プラズマやガスの計測方法、エネルギー効率の求め方や注意点、異なるプラズマプロセスの比較方法などをわかりやすく解説いたします。

本セミナーでは、最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術全体を、基礎となる物理化学原理から解説し、特に、近年注目を集める原子層エッチング (ALE) 技術について、表面反応機構から最新技術動向までを解説いたします。

本セミナーでは、低温大気圧プラズマについて基礎から解説し、表面改質の経時変化と保持の考え方、低温かつ高速処理の両立、接着前処理、コーティング、医療など豊富な事例と共に解説いたします。

本セミナーでは、大気圧プラズマの研究開発を行う上で必要となる基本的な考え方、特有の物理科学現象、簡易的なプラズマの診断手法、最新の応用について実例を挙げて解説いたします。
また、プラズマが不得意とする領域への代替手段として用いられるレーザーの基礎知識と応用例についても紹介いたします。

本セミナーでは、プラズマの物理的・化学的基礎から始めて、プラズマ発生装置、プラズマCVD、プロセス解析のための計測方法、プロセスのモニタリング・制御、材料合成への応用、特にナノ・微粒子材料合成の方法について分かりやすく解説いたします。

本セミナーでは、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心に紹介いたします。

本セミナーでは、プラズマの性質やプラズマ中で起こっている基本的な現象 (電離、解離、拡散、消滅) を解説するとともに、半導体微細加工において重要なパラメータとなる壁へのイオンや化学活性種のフラックス量がどのような過程で決定づけられているかを説明いたします。

本セミナーでは、親水化処理、接着性向上、クリーニング等の分野で応用が広がる大気圧プラズマについて、基礎から分かりやすく解説いたします。
また、最新の大気圧プラズマ生成法と表面処理、殺菌、環境浄化等への最先端の応用例を解説いたします。

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、プラズマCVDによって高品質膜を得ようとした際の意思決定に関わる物理的・化学的なメカニズムについて基礎から解説いたします。

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。

本セミナーでは、薄膜堆積やドライエッチングなどの半導体プロセスに用いられるプラズマの生成機構や特徴について解説いたします。
また、プラズマCVDやドライエッチングの原理、装置の構造、処理条件の最適化法など解説いたします。